电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2010年
11期
7-9,13
,共4页
颜秀文%贾京英%刘威成%王慧勇
顏秀文%賈京英%劉威成%王慧勇
안수문%가경영%류위성%왕혜용
高温离子注入靶室%晶片爪%设计%热分析
高溫離子註入靶室%晶片爪%設計%熱分析
고온리자주입파실%정편조%설계%열분석
简要介绍了高温离子注入靶室的设计.通过设计辅助加热装置使离子注入时晶片表面温度达到500℃以上,并通过靶盘旋转和往返平移扫描的方式实现了晶片片内和片间的温度均匀性,满足了碳化硅掺杂、SOI晶片制造等特殊需要.
簡要介紹瞭高溫離子註入靶室的設計.通過設計輔助加熱裝置使離子註入時晶片錶麵溫度達到500℃以上,併通過靶盤鏇轉和往返平移掃描的方式實現瞭晶片片內和片間的溫度均勻性,滿足瞭碳化硅摻雜、SOI晶片製造等特殊需要.
간요개소료고온리자주입파실적설계.통과설계보조가열장치사리자주입시정편표면온도체도500℃이상,병통과파반선전화왕반평이소묘적방식실현료정편편내화편간적온도균균성,만족료탄화규참잡、SOI정편제조등특수수요.
