真空
真空
진공
VACUUM
2012年
1期
45-47
,共3页
铝诱导结晶%三明治结构%多晶硅薄膜
鋁誘導結晶%三明治結構%多晶硅薄膜
려유도결정%삼명치결구%다정규박막
本文对比探索了新型Al/α -Si/Al三明治结构与传统的Al/α -Si双层结构对铝诱导非晶硅薄膜低温晶化结果的影响,结果表明在相同的制备及退火条件下,前者更利于形成高度晶化的多晶硅薄 .膜.本研究工作利用拉曼光谱、掠入射X射线衍射、光学显微镜、方块电阻等表征方法探讨了薄膜厚度比和退火温度对金属诱导非晶硅薄膜晶化的程度、晶体结构以及电学性能的影响,最终制备出了电阻率仅为2.5 Ω·cm的多晶硅薄膜.
本文對比探索瞭新型Al/α -Si/Al三明治結構與傳統的Al/α -Si雙層結構對鋁誘導非晶硅薄膜低溫晶化結果的影響,結果錶明在相同的製備及退火條件下,前者更利于形成高度晶化的多晶硅薄 .膜.本研究工作利用拉曼光譜、掠入射X射線衍射、光學顯微鏡、方塊電阻等錶徵方法探討瞭薄膜厚度比和退火溫度對金屬誘導非晶硅薄膜晶化的程度、晶體結構以及電學性能的影響,最終製備齣瞭電阻率僅為2.5 Ω·cm的多晶硅薄膜.
본문대비탐색료신형Al/α -Si/Al삼명치결구여전통적Al/α -Si쌍층결구대려유도비정규박막저온정화결과적영향,결과표명재상동적제비급퇴화조건하,전자경리우형성고도정화적다정규박 .막.본연구공작이용랍만광보、략입사X사선연사、광학현미경、방괴전조등표정방법탐토료박막후도비화퇴화온도대금속유도비정규박막정화적정도、정체결구이급전학성능적영향,최종제비출료전조솔부위2.5 Ω·cm적다정규박막.
