光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2008年
5期
1007-1011
,共5页
肖祁陵%贺洪波%邵淑英%邵建达%范正修
肖祁陵%賀洪波%邵淑英%邵建達%範正脩
초기릉%하홍파%소숙영%소건체%범정수
薄膜光学%残余应力%氧化钇稳定氧化锆薄膜%沉积温度
薄膜光學%殘餘應力%氧化釔穩定氧化鋯薄膜%沉積溫度
박막광학%잔여응력%양화을은정양화고박막%침적온도
采用自制掺摩尔分数12%的YzO2的ZrO2混合颗粒料为原料,在不同的沉积温度下用电子束蒸发方法沉积氧化钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜样品.利用ZYGO MarkⅢ-GPI数字波面干涉仪对氧化钇稳定氧化锆薄膜的残余应力进行了研究,讨论了沉积温度对残余应力的影响.实验结果表明:随沉积温度升高,氧化钇稳定氧化锆薄膜中残余应力状态由张应力变为压应力.且压应力值随着沉积温度升高而增大;用X射线衍射仪表征了不同沉积温度下氧化钇稳定氧化锆薄膜的微观结构,探讨了薄膜微观结构与其应力的对应关系,并对比了纯ZrO2薄膜表现出的应力状念.
採用自製摻摩爾分數12%的YzO2的ZrO2混閤顆粒料為原料,在不同的沉積溫度下用電子束蒸髮方法沉積氧化釔穩定氧化鋯(YSZ)薄膜樣品.利用ZYGO MarkⅢ-GPI數字波麵榦涉儀對氧化釔穩定氧化鋯薄膜的殘餘應力進行瞭研究,討論瞭沉積溫度對殘餘應力的影響.實驗結果錶明:隨沉積溫度升高,氧化釔穩定氧化鋯薄膜中殘餘應力狀態由張應力變為壓應力.且壓應力值隨著沉積溫度升高而增大;用X射線衍射儀錶徵瞭不同沉積溫度下氧化釔穩定氧化鋯薄膜的微觀結構,探討瞭薄膜微觀結構與其應力的對應關繫,併對比瞭純ZrO2薄膜錶現齣的應力狀唸.
채용자제참마이분수12%적YzO2적ZrO2혼합과립료위원료,재불동적침적온도하용전자속증발방법침적양화을은정양화고(YSZ)박막양품.이용ZYGO MarkⅢ-GPI수자파면간섭의대양화을은정양화고박막적잔여응력진행료연구,토론료침적온도대잔여응력적영향.실험결과표명:수침적온도승고,양화을은정양화고박막중잔여응력상태유장응력변위압응력.차압응력치수착침적온도승고이증대;용X사선연사의표정료불동침적온도하양화을은정양화고박막적미관결구,탐토료박막미관결구여기응력적대응관계,병대비료순ZrO2박막표현출적응력상념.
