润滑与密封
潤滑與密封
윤활여밀봉
LUBRICATION ENGINEERING
2006年
1期
31-34
,共4页
纳米氧化硅抛光液%玻璃基片%亚纳米级粗糙度%平面化
納米氧化硅拋光液%玻璃基片%亞納米級粗糙度%平麵化
납미양화규포광액%파리기편%아납미급조조도%평면화
为满足先进电子产品对玻璃基片表面超光滑的要求,制备了一种纳米氧化硅抛光液,并研究了氧化硅粒子大小、抛光时间等参数对玻璃基片抛光后表面粗糙度、材料去除速率的影响.ZYGO形貌仪表明,采用纳米氧化硅抛光液,可以使玻璃表面粗糙度达到0.5 nm左右.AFM表明,抛光后的玻璃基片表面超光滑且无划痕等微观缺陷.
為滿足先進電子產品對玻璃基片錶麵超光滑的要求,製備瞭一種納米氧化硅拋光液,併研究瞭氧化硅粒子大小、拋光時間等參數對玻璃基片拋光後錶麵粗糙度、材料去除速率的影響.ZYGO形貌儀錶明,採用納米氧化硅拋光液,可以使玻璃錶麵粗糙度達到0.5 nm左右.AFM錶明,拋光後的玻璃基片錶麵超光滑且無劃痕等微觀缺陷.
위만족선진전자산품대파리기편표면초광활적요구,제비료일충납미양화규포광액,병연구료양화규입자대소、포광시간등삼수대파리기편포광후표면조조도、재료거제속솔적영향.ZYGO형모의표명,채용납미양화규포광액,가이사파리표면조조도체도0.5 nm좌우.AFM표명,포광후적파리기편표면초광활차무화흔등미관결함.
