电化学
電化學
전화학
2007年
3期
264-268
,共5页
ICP刻蚀%硅模板%PDMS%超疏水
ICP刻蝕%硅模闆%PDMS%超疏水
ICP각식%규모판%PDMS%초소수
在ICP(inductively coupled plasma)刻蚀后的硅模板上复制聚二甲基硅氧烷(PDMS),经剥离得到含有一定尺寸的规则微柱阵列疏水表面.实验表明,当微柱高度较小时,微柱高度和边长对接触角有正影响,而间距则呈负影响;但如微柱高度较大,则高度对接触角的影响趋小,而边长呈负影响.间距对接触角的影响表现复杂.微柱间距6μm,边长14μm和高14μm微柱阵列的PDMS表面,静态接触角最大,约151°.
在ICP(inductively coupled plasma)刻蝕後的硅模闆上複製聚二甲基硅氧烷(PDMS),經剝離得到含有一定呎吋的規則微柱陣列疏水錶麵.實驗錶明,噹微柱高度較小時,微柱高度和邊長對接觸角有正影響,而間距則呈負影響;但如微柱高度較大,則高度對接觸角的影響趨小,而邊長呈負影響.間距對接觸角的影響錶現複雜.微柱間距6μm,邊長14μm和高14μm微柱陣列的PDMS錶麵,靜態接觸角最大,約151°.
재ICP(inductively coupled plasma)각식후적규모판상복제취이갑기규양완(PDMS),경박리득도함유일정척촌적규칙미주진렬소수표면.실험표명,당미주고도교소시,미주고도화변장대접촉각유정영향,이간거칙정부영향;단여미주고도교대,칙고도대접촉각적영향추소,이변장정부영향.간거대접촉각적영향표현복잡.미주간거6μm,변장14μm화고14μm미주진렬적PDMS표면,정태접촉각최대,약151°.
