电子元器件资讯
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전자원기건자신
ECDN
2009年
3期
19-23
,共5页
8英寸立式炉%颗粒控制%加热炉体%旋转储片台
8英吋立式爐%顆粒控製%加熱爐體%鏇轉儲片檯
8영촌입식로%과립공제%가열로체%선전저편태
本文简要介绍了适用于8英寸硅片、能够进行扩散、氧化、退火、合金等工艺的立式扩散氧化炉的研制目的、技术路线、关键部件及技术难点.重点介绍了加热炉体及其温度控制、储片台、颗粒控制及设备含氧量的设计及控制.
本文簡要介紹瞭適用于8英吋硅片、能夠進行擴散、氧化、退火、閤金等工藝的立式擴散氧化爐的研製目的、技術路線、關鍵部件及技術難點.重點介紹瞭加熱爐體及其溫度控製、儲片檯、顆粒控製及設備含氧量的設計及控製.
본문간요개소료괄용우8영촌규편、능구진행확산、양화、퇴화、합금등공예적입식확산양화로적연제목적、기술로선、관건부건급기술난점.중점개소료가열로체급기온도공제、저편태、과립공제급설비함양량적설계급공제.
