微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2011年
10期
669-673
,共5页
甘小伟%刘玉岭%何彦刚%李伟娟%王娟%宋洵奕
甘小偉%劉玉嶺%何彥剛%李偉娟%王娟%宋洵奕
감소위%류옥령%하언강%리위연%왕연%송순혁
化学机械平坦化技术(CMP)%浆料%纯化%离子交换%Na+
化學機械平坦化技術(CMP)%漿料%純化%離子交換%Na+
화학궤계평탄화기술(CMP)%장료%순화%리자교환%Na+
采用离子交换法去除ULSI/GLSI CMP浆料SiO2水溶胶中的Na+.介绍了微电子专用CMP SiO2水溶胶纯化的研究现状.实验分析了SiO2水溶胶中Na+与阳离子树脂的交换机理,硅溶胶中Na+去除分为硅溶胶溶液中Na+的去除和被硅溶胶胶团吸附Na+的去除.在交换动态平衡时,动态交换1h较静态交换24 h生产效率提高了20多倍.同时阳1-阳1、阳2-阳1、阳3-阳1、阳1-阴1-阳1等离子交换工艺均能得到很好的纯化效果CNa+＜5×10-6,不仅循环利用了树脂,而且酸碱耗量减少了50％以上.同时纯化硅溶胶配成碱性抛光液在硅片CMP应用中取得良好的结果.
採用離子交換法去除ULSI/GLSI CMP漿料SiO2水溶膠中的Na+.介紹瞭微電子專用CMP SiO2水溶膠純化的研究現狀.實驗分析瞭SiO2水溶膠中Na+與暘離子樹脂的交換機理,硅溶膠中Na+去除分為硅溶膠溶液中Na+的去除和被硅溶膠膠糰吸附Na+的去除.在交換動態平衡時,動態交換1h較靜態交換24 h生產效率提高瞭20多倍.同時暘1-暘1、暘2-暘1、暘3-暘1、暘1-陰1-暘1等離子交換工藝均能得到很好的純化效果CNa+＜5×10-6,不僅循環利用瞭樹脂,而且痠堿耗量減少瞭50％以上.同時純化硅溶膠配成堿性拋光液在硅片CMP應用中取得良好的結果.
채용리자교환법거제ULSI/GLSI CMP장료SiO2수용효중적Na+.개소료미전자전용CMP SiO2수용효순화적연구현상.실험분석료SiO2수용효중Na+여양리자수지적교환궤리,규용효중Na+거제분위규용효용액중Na+적거제화피규용효효단흡부Na+적거제.재교환동태평형시,동태교환1h교정태교환24 h생산효솔제고료20다배.동시양1-양1、양2-양1、양3-양1、양1-음1-양1등리자교환공예균능득도흔호적순화효과CNa+＜5×10-6,불부순배이용료수지,이차산감모량감소료50％이상.동시순화규용효배성감성포광액재규편CMP응용중취득량호적결과.
