西北师范大学学报（自然科学版）
西北師範大學學報（自然科學版）
서북사범대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF NORTHWEST NORMAL UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE)
2012年
2期
24-30
,共7页
马书懿%杨付超%张小雷%黄新丽%马李刚%李发明%刘静%赵强
馬書懿%楊付超%張小雷%黃新麗%馬李剛%李髮明%劉靜%趙彊
마서의%양부초%장소뢰%황신려%마리강%리발명%류정%조강
多孔硅%Cu掺杂ZnO薄膜%射频反应磁控溅射%微结构%X射线衍射%光致发光谱
多孔硅%Cu摻雜ZnO薄膜%射頻反應磁控濺射%微結構%X射線衍射%光緻髮光譜
다공규%Cu참잡ZnO박막%사빈반응자공천사%미결구%X사선연사%광치발광보
用电化学阳极氧化法腐蚀p型(100)的单晶硅片制成多孔硅(PS)衬底,然后采用射频反应磁控溅射技术在PS衬底上沉积了不同Cu掺杂浓度的ZnO薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外分光光度计和荧光分光光度计研究了不同Cu掺杂浓度对薄膜结构和光学性能的影响.XRD结果显示:所有样品都呈现出较强的(002)衍射峰,有很好的c轴择优取向；SEM形貌显示:ZnO晶粒覆盖了PS的孔洞,薄膜表面平整,晶界较明显；透射吸收谱显示:ZnO薄膜有较高的平均透射率,并随着Cu掺杂量的增加而降低,光学带隙值由3.22 eV减小到3.15 eV；样品的光致发光谱显示:ZnO/PS纳米复合体系在可见光区(380-750 nm)形成了较宽的发光带,并且掺杂浓度对发光强度有显著的影响.ZnO的蓝光、绿光与PS的红橙光叠加,呈现出了较宽的白光发射.
用電化學暘極氧化法腐蝕p型(100)的單晶硅片製成多孔硅(PS)襯底,然後採用射頻反應磁控濺射技術在PS襯底上沉積瞭不同Cu摻雜濃度的ZnO薄膜.利用X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、紫外分光光度計和熒光分光光度計研究瞭不同Cu摻雜濃度對薄膜結構和光學性能的影響.XRD結果顯示:所有樣品都呈現齣較彊的(002)衍射峰,有很好的c軸擇優取嚮；SEM形貌顯示:ZnO晶粒覆蓋瞭PS的孔洞,薄膜錶麵平整,晶界較明顯；透射吸收譜顯示:ZnO薄膜有較高的平均透射率,併隨著Cu摻雜量的增加而降低,光學帶隙值由3.22 eV減小到3.15 eV；樣品的光緻髮光譜顯示:ZnO/PS納米複閤體繫在可見光區(380-750 nm)形成瞭較寬的髮光帶,併且摻雜濃度對髮光彊度有顯著的影響.ZnO的藍光、綠光與PS的紅橙光疊加,呈現齣瞭較寬的白光髮射.
용전화학양겁양화법부식p형(100)적단정규편제성다공규(PS)츤저,연후채용사빈반응자공천사기술재PS츤저상침적료불동Cu참잡농도적ZnO박막.이용X사선연사(XRD)、소묘전자현미경(SEM)、자외분광광도계화형광분광광도계연구료불동Cu참잡농도대박막결구화광학성능적영향.XRD결과현시:소유양품도정현출교강적(002)연사봉,유흔호적c축택우취향；SEM형모현시:ZnO정립복개료PS적공동,박막표면평정,정계교명현；투사흡수보현시:ZnO박막유교고적평균투사솔,병수착Cu참잡량적증가이강저,광학대극치유3.22 eV감소도3.15 eV；양품적광치발광보현시:ZnO/PS납미복합체계재가견광구(380-750 nm)형성료교관적발광대,병차참잡농도대발광강도유현저적영향.ZnO적람광、록광여PS적홍등광첩가,정현출료교관적백광발사.
