高分子学报
高分子學報
고분자학보
ACTA POLYMERICA SINICA
2008年
4期
350-354
,共5页
李义和%王浩%李效东%金东杓
李義和%王浩%李效東%金東杓
리의화%왕호%리효동%금동표
陶瓷先驱体%聚乙烯基硅氮烷%改性研究%紫外光固化
陶瓷先驅體%聚乙烯基硅氮烷%改性研究%紫外光固化
도자선구체%취을희기규담완%개성연구%자외광고화
采用带丙烯酸酯基团的烯丙基溴化合物(4-溴丁烯酸乙酯)和聚乙烯基硅氮烷发生取代反应,实现了丙烯酸酯基团在聚乙烯基硅氮烷主链上的链接.采用质子核磁共振谱(1H-NMR)和二维质子核磁共振谱(2D-1H-1 H-NMR)对分子结构进行了表征,采用光学差热分析仪(Photo-DSC)和傅立叶转换红外光谱仪(FT-IR)测试了改性高分子的光敏性能,用热重分析仪(TGA)分析了产物在高纯氮气氛围下的陶瓷收率.结果表明,通过分子改性,交联固化时间从改性前的20 min减少到1 min之内,功能化的聚乙烯基硅氮烷可以在光刻蚀工艺中作为负性光刻胶使用.
採用帶丙烯痠酯基糰的烯丙基溴化閤物(4-溴丁烯痠乙酯)和聚乙烯基硅氮烷髮生取代反應,實現瞭丙烯痠酯基糰在聚乙烯基硅氮烷主鏈上的鏈接.採用質子覈磁共振譜(1H-NMR)和二維質子覈磁共振譜(2D-1H-1 H-NMR)對分子結構進行瞭錶徵,採用光學差熱分析儀(Photo-DSC)和傅立葉轉換紅外光譜儀(FT-IR)測試瞭改性高分子的光敏性能,用熱重分析儀(TGA)分析瞭產物在高純氮氣氛圍下的陶瓷收率.結果錶明,通過分子改性,交聯固化時間從改性前的20 min減少到1 min之內,功能化的聚乙烯基硅氮烷可以在光刻蝕工藝中作為負性光刻膠使用.
채용대병희산지기단적희병기추화합물(4-추정희산을지)화취을희기규담완발생취대반응,실현료병희산지기단재취을희기규담완주련상적련접.채용질자핵자공진보(1H-NMR)화이유질자핵자공진보(2D-1H-1 H-NMR)대분자결구진행료표정,채용광학차열분석의(Photo-DSC)화부립협전환홍외광보의(FT-IR)측시료개성고분자적광민성능,용열중분석의(TGA)분석료산물재고순담기분위하적도자수솔.결과표명,통과분자개성,교련고화시간종개성전적20 min감소도1 min지내,공능화적취을희기규담완가이재광각식공예중작위부성광각효사용.
