机械工程学报
機械工程學報
궤계공정학보
CHINESE JOURNAL OF MECHANICAL ENGINEERING
2011年
2期
189-194
,共6页
傅新%赵金余%陈晖%陈文昱
傅新%趙金餘%陳暉%陳文昱
부신%조금여%진휘%진문욱
浸没式光刻%浸没流场%流场可视化%更新效率
浸沒式光刻%浸沒流場%流場可視化%更新效率
침몰식광각%침몰류장%류장가시화%경신효솔
浸没式光刻是当前45 nm以下集成电路(Integrated circuit,IC)生产线上唯一实际应用的技术.它通过在最后一片投影物镜和硅片之间填充高折射率的浸没液体来提高光刻的分辨率.作为光刻系统中光路的一部分,浸没液体需要保持良好的均一性.然而,曝光过程中光刻胶泄漏污染和曝光温升的问题,会破坏流场的均一性,并最终影响到成像质量.目前主要采用浸没液体的更新带走光刻中产生的污染物和热量,液体的更新效率成为了浸没式光刻机设计中必须考虑的关键问题之一.建立浸没流场的数值模型,并研究结构参数对流场更新效率的影响.运用高速摄像机、数据采集仪等组成的可视化流场检测试验系统开展浸没流场可视化研究,并与仿真结果进行对比,得到一组优化的注液与回收口参数.
浸沒式光刻是噹前45 nm以下集成電路(Integrated circuit,IC)生產線上唯一實際應用的技術.它通過在最後一片投影物鏡和硅片之間填充高摺射率的浸沒液體來提高光刻的分辨率.作為光刻繫統中光路的一部分,浸沒液體需要保持良好的均一性.然而,曝光過程中光刻膠洩漏汙染和曝光溫升的問題,會破壞流場的均一性,併最終影響到成像質量.目前主要採用浸沒液體的更新帶走光刻中產生的汙染物和熱量,液體的更新效率成為瞭浸沒式光刻機設計中必鬚攷慮的關鍵問題之一.建立浸沒流場的數值模型,併研究結構參數對流場更新效率的影響.運用高速攝像機、數據採集儀等組成的可視化流場檢測試驗繫統開展浸沒流場可視化研究,併與倣真結果進行對比,得到一組優化的註液與迴收口參數.
침몰식광각시당전45 nm이하집성전로(Integrated circuit,IC)생산선상유일실제응용적기술.타통과재최후일편투영물경화규편지간전충고절사솔적침몰액체래제고광각적분변솔.작위광각계통중광로적일부분,침몰액체수요보지량호적균일성.연이,폭광과정중광각효설루오염화폭광온승적문제,회파배류장적균일성,병최종영향도성상질량.목전주요채용침몰액체적경신대주광각중산생적오염물화열량,액체적경신효솔성위료침몰식광각궤설계중필수고필적관건문제지일.건립침몰류장적수치모형,병연구결구삼수대류장경신효솔적영향.운용고속섭상궤、수거채집의등조성적가시화류장검측시험계통개전침몰류장가시화연구,병여방진결과진행대비,득도일조우화적주액여회수구삼수.
