电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2005年
4期
48-52,59
,共6页
注入机%离子束%均匀性%变速扫描%SOI
註入機%離子束%均勻性%變速掃描%SOI
주입궤%리자속%균균성%변속소묘%SOI
对强流氧离子注入机的注入靶室进行分析探讨,对影响均匀性指标的靶盘结构、束的形状和束扫描注入方式进行研究,结合主体硬件,增加晶片自旋装置和采用新的扫描方式,来提高注入均匀性指标.
對彊流氧離子註入機的註入靶室進行分析探討,對影響均勻性指標的靶盤結構、束的形狀和束掃描註入方式進行研究,結閤主體硬件,增加晶片自鏇裝置和採用新的掃描方式,來提高註入均勻性指標.
대강류양리자주입궤적주입파실진행분석탐토,대영향균균성지표적파반결구、속적형상화속소묘주입방식진행연구,결합주체경건,증가정편자선장치화채용신적소묘방식,래제고주입균균성지표.