低温物理学报
低溫物理學報
저온물이학보
CHINESE JOURNAL OF LOW TEMPERATURE PHYSICS
2005年
z1期
465-469
,共5页
王奉波%李洁%雍俐培%黎松林%孙小松%郑东宁
王奉波%李潔%雍俐培%黎鬆林%孫小鬆%鄭東寧
왕봉파%리길%옹리배%려송림%손소송%정동저
电子强关联%Mott绝缘体%脉冲激光沉积
電子彊關聯%Mott絕緣體%脈遲激光沉積
전자강관련%Mott절연체%맥충격광침적
利用脉冲激光沉积 (PLD)的方法,在750℃的生长温度,不同的氧气气氛下(6.6×10-4Pa～50Pa)制备了LaTiO3+x(LTO)薄膜.反射式高能电子衍射仪 (RHEED)实时监测表明我们所制备的薄膜表面平整光滑,面内取向较好.X射线衍射 (XRD)数据表明:LaTiO3+x薄膜特征峰的位置随生长氧压的变化而发生变化.当氧压增大时,衍射峰对应的2θ角减小,并且在中间氧压时,衍射峰宽化.我们认为氧压增大,使得薄膜中氧含量增加.随着x值的增加,薄膜的电输运性能发生显著改变.在高真空度条件下生长的薄膜表现出很强的金属性,当氧压增加时,材料的电阻率显著增大.实验中测量的所有样品的电阻率都保持正的温度系数,并且在一个相当大的温度区间内与温度的平方呈线性关系.
利用脈遲激光沉積 (PLD)的方法,在750℃的生長溫度,不同的氧氣氣氛下(6.6×10-4Pa～50Pa)製備瞭LaTiO3+x(LTO)薄膜.反射式高能電子衍射儀 (RHEED)實時鑑測錶明我們所製備的薄膜錶麵平整光滑,麵內取嚮較好.X射線衍射 (XRD)數據錶明:LaTiO3+x薄膜特徵峰的位置隨生長氧壓的變化而髮生變化.噹氧壓增大時,衍射峰對應的2θ角減小,併且在中間氧壓時,衍射峰寬化.我們認為氧壓增大,使得薄膜中氧含量增加.隨著x值的增加,薄膜的電輸運性能髮生顯著改變.在高真空度條件下生長的薄膜錶現齣很彊的金屬性,噹氧壓增加時,材料的電阻率顯著增大.實驗中測量的所有樣品的電阻率都保持正的溫度繫數,併且在一箇相噹大的溫度區間內與溫度的平方呈線性關繫.
이용맥충격광침적 (PLD)적방법,재750℃적생장온도,불동적양기기분하(6.6×10-4Pa～50Pa)제비료LaTiO3+x(LTO)박막.반사식고능전자연사의 (RHEED)실시감측표명아문소제비적박막표면평정광활,면내취향교호.X사선연사 (XRD)수거표명:LaTiO3+x박막특정봉적위치수생장양압적변화이발생변화.당양압증대시,연사봉대응적2θ각감소,병차재중간양압시,연사봉관화.아문인위양압증대,사득박막중양함량증가.수착x치적증가,박막적전수운성능발생현저개변.재고진공도조건하생장적박막표현출흔강적금속성,당양압증가시,재료적전조솔현저증대.실험중측량적소유양품적전조솔도보지정적온도계수,병차재일개상당대적온도구간내여온도적평방정선성관계.
