光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2010年
6期
1104-1110
,共7页
常雷%袁艳%张修宝%周志良
常雷%袁豔%張脩寶%週誌良
상뢰%원염%장수보%주지량
掩膜%光场成像%采样%仿真
掩膜%光場成像%採樣%倣真
엄막%광장성상%채양%방진
从原理上分析了掩膜的光场成像特点,通过建立光场成像的计算机仿真模型,模拟四维光场的获取,并通过数字对焦算法获得离焦物体的清晰图像.同时利用采样定理分析了孔径采样密度对数字对焦图像的影响.计算出合适的采样间隔对仿真模型的复杂度进行优化.
從原理上分析瞭掩膜的光場成像特點,通過建立光場成像的計算機倣真模型,模擬四維光場的穫取,併通過數字對焦算法穫得離焦物體的清晰圖像.同時利用採樣定理分析瞭孔徑採樣密度對數字對焦圖像的影響.計算齣閤適的採樣間隔對倣真模型的複雜度進行優化.
종원리상분석료엄막적광장성상특점,통과건립광장성상적계산궤방진모형,모의사유광장적획취,병통과수자대초산법획득리초물체적청석도상.동시이용채양정리분석료공경채양밀도대수자대초도상적영향.계산출합괄적채양간격대방진모형적복잡도진행우화.
