发光学报
髮光學報
발광학보
CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE
2011年
1期
83-86
,共4页
张新月%曾凡光%姚宁%张兵临
張新月%曾凡光%姚寧%張兵臨
장신월%증범광%요저%장병림
纳米非晶碳膜%催化剂%场发射
納米非晶碳膜%催化劑%場髮射
납미비정탄막%최화제%장발사
利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜.通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的影响.结果表明,在制备纳米非晶碳膜时使用FeC13,作为催化剂可大幅提高其生长速率.在相同的制备条件下,与未加FeCl3催化剂制备的纳米非晶碳膜的场发射性能相比,加催化剂制备的碳膜开启电场降至0.5 V·μm-1;在1.8 V·μm-1的电场下,电流密度可以达到2.6 mA·cm-2,而且发射点密度较大、分布均匀.
利用微波等離子體增彊化學氣相沉積(MPECVD)法,在經處理的單晶硅襯底上沉積瞭納米非晶碳薄膜.通過Raman、SEM、XRD錶徵,研究瞭催化劑對納米非晶碳膜的生長速率及場髮射性能的影響.結果錶明,在製備納米非晶碳膜時使用FeC13,作為催化劑可大幅提高其生長速率.在相同的製備條件下,與未加FeCl3催化劑製備的納米非晶碳膜的場髮射性能相比,加催化劑製備的碳膜開啟電場降至0.5 V·μm-1;在1.8 V·μm-1的電場下,電流密度可以達到2.6 mA·cm-2,而且髮射點密度較大、分佈均勻.
이용미파등리자체증강화학기상침적(MPECVD)법,재경처리적단정규츤저상침적료납미비정탄박막.통과Raman、SEM、XRD표정,연구료최화제대납미비정탄막적생장속솔급장발사성능적영향.결과표명,재제비납미비정탄막시사용FeC13,작위최화제가대폭제고기생장속솔.재상동적제비조건하,여미가FeCl3최화제제비적납미비정탄막적장발사성능상비,가최화제제비적탄막개계전장강지0.5 V·μm-1;재1.8 V·μm-1적전장하,전류밀도가이체도2.6 mA·cm-2,이차발사점밀도교대、분포균균.
