微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2011年
4期
269-273
,共5页
离子注入%扫描%均匀性%算法%束流
離子註入%掃描%均勻性%算法%束流
리자주입%소묘%균균성%산법%속류
为提高离子注入工艺中水平扫描输入剂量的均匀性,研究了离子束水平扫描速度对各处注入剂量的影响规律,建立了水平方向注入剂量分布曲线的数学模型.通过简化离子束斑轮廓,提出了一种实用的离子注入水平扫描均匀性控制算法,实际校正过程要经过多次循环,才能使离子注入水平扫描的均匀性收敛到目标范围内.在离子注入工艺中,利用该算法对束线水平扫描均匀性成功进行了校正实验,校正前的水平扫描均匀性为10%,经过5次校正,水平扫描均匀性达到1%,比校正前提高了一个数量级,验证了这种算法的可行性与有效性.
為提高離子註入工藝中水平掃描輸入劑量的均勻性,研究瞭離子束水平掃描速度對各處註入劑量的影響規律,建立瞭水平方嚮註入劑量分佈麯線的數學模型.通過簡化離子束斑輪廓,提齣瞭一種實用的離子註入水平掃描均勻性控製算法,實際校正過程要經過多次循環,纔能使離子註入水平掃描的均勻性收斂到目標範圍內.在離子註入工藝中,利用該算法對束線水平掃描均勻性成功進行瞭校正實驗,校正前的水平掃描均勻性為10%,經過5次校正,水平掃描均勻性達到1%,比校正前提高瞭一箇數量級,驗證瞭這種算法的可行性與有效性.
위제고리자주입공예중수평소묘수입제량적균균성,연구료리자속수평소묘속도대각처주입제량적영향규률,건립료수평방향주입제량분포곡선적수학모형.통과간화리자속반륜곽,제출료일충실용적리자주입수평소묘균균성공제산법,실제교정과정요경과다차순배,재능사리자주입수평소묘적균균성수렴도목표범위내.재리자주입공예중,이용해산법대속선수평소묘균균성성공진행료교정실험,교정전적수평소묘균균성위10%,경과5차교정,수평소묘균균성체도1%,비교정전제고료일개수량급,험증료저충산법적가행성여유효성.
