四川大学学报（自然科学版）
四川大學學報（自然科學版）
사천대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF SICHUAN UNIVERSITY（NATURAL SCIENCE EDITION）
2011年
2期
395-399
,共5页
陶勇%廖志君%王自磊%范强%伍登学%卢铁城
陶勇%廖誌君%王自磊%範彊%伍登學%盧鐵城
도용%료지군%왕자뢰%범강%오등학%로철성
电子束蒸发%涂层%沉积时间
電子束蒸髮%塗層%沉積時間
전자속증발%도층%침적시간
自行设计一套筛网反弹盘三维沉积装置,用于电子束蒸发制备碳化硼微球涂层.采用电子束蒸发法并结合此装置在直径为1 mm的玻璃小球表面沉积了碳化硼涂层.研究了筛网振动频率、电子束制备工艺对沉积速率、涂层厚度以及涂层表面粗糙度的影响.采用X射线照相技术测试涂层的厚度;XPS测试涂层表面成分;AFM表征涂层的表面形貌和均方根粗糙度.结果表明:涂层主要成分为B4C,表面较为光滑、均匀;当筛网振动频率为0.25 Hz,且电子束蒸发工艺参数定为:真空度P小于3×10-3Pa,高压U等于6 kV,束流Ⅰ在100 mA～120mA之间时,所制涂层表面形貌最佳.
自行設計一套篩網反彈盤三維沉積裝置,用于電子束蒸髮製備碳化硼微毬塗層.採用電子束蒸髮法併結閤此裝置在直徑為1 mm的玻璃小毬錶麵沉積瞭碳化硼塗層.研究瞭篩網振動頻率、電子束製備工藝對沉積速率、塗層厚度以及塗層錶麵粗糙度的影響.採用X射線照相技術測試塗層的厚度;XPS測試塗層錶麵成分;AFM錶徵塗層的錶麵形貌和均方根粗糙度.結果錶明:塗層主要成分為B4C,錶麵較為光滑、均勻;噹篩網振動頻率為0.25 Hz,且電子束蒸髮工藝參數定為:真空度P小于3×10-3Pa,高壓U等于6 kV,束流Ⅰ在100 mA～120mA之間時,所製塗層錶麵形貌最佳.
자행설계일투사망반탄반삼유침적장치,용우전자속증발제비탄화붕미구도층.채용전자속증발법병결합차장치재직경위1 mm적파리소구표면침적료탄화붕도층.연구료사망진동빈솔、전자속제비공예대침적속솔、도층후도이급도층표면조조도적영향.채용X사선조상기술측시도층적후도;XPS측시도층표면성분;AFM표정도층적표면형모화균방근조조도.결과표명:도층주요성분위B4C,표면교위광활、균균;당사망진동빈솔위0.25 Hz,차전자속증발공예삼수정위:진공도P소우3×10-3Pa,고압U등우6 kV,속류Ⅰ재100 mA～120mA지간시,소제도층표면형모최가.
