原子能科学技术
原子能科學技術
원자능과학기술
ATOMIC ENERGY SCIENCE AND TECHNOLOGY
2010年
9期
1047-1053
,共7页
铀铌合金%X 射线光电谱%热氧化膜
鈾鈮閤金%X 射線光電譜%熱氧化膜
유니합금%X 사선광전보%열양화막
采用X射线光电谱分析技术、结合Ar离子枪溅射,研究了大气环境、不同温度(室温、100、200和300 ℃)条件下铀铌合金样品表面氧化膜结构的变化情况.实验结果表明:随温度升高,氧化膜厚度增大,氧化膜结构发生明显变化.不同温度热氧化处理后,铀铌合金初始表面Nb主要以Nb2O5形式存在,在Nb2O5与金属Nb之间,总存在一定厚度的NbO及少量其他价态氧化物NbOx(0<x<1,1<x<2)的混合层.室温～200℃热氧化合金样品表面铀均以含间隙氧的UO2+x(P型)存在,其U 4 f7/2结合能较UO2低约0.7 eV.室温条件下,氧化膜成分主要为UO2;100、200℃热氧化后,氧化膜中除UO2外,还含有少量P型UO2+x,其U 4 fs/2卫星峰的结合能为396.6 eV.300℃热氧化后的合金样品表面为铀的高价氧化物(U3O8或UOx,2<x<3),U 4f特征峰的结合能分别为381.8和392.2 eV;氧化层为UO2和金属铀的混合物.热氧化过程中,温度对铀氧化的影响较对Nb的明显得多.
採用X射線光電譜分析技術、結閤Ar離子鎗濺射,研究瞭大氣環境、不同溫度(室溫、100、200和300 ℃)條件下鈾鈮閤金樣品錶麵氧化膜結構的變化情況.實驗結果錶明:隨溫度升高,氧化膜厚度增大,氧化膜結構髮生明顯變化.不同溫度熱氧化處理後,鈾鈮閤金初始錶麵Nb主要以Nb2O5形式存在,在Nb2O5與金屬Nb之間,總存在一定厚度的NbO及少量其他價態氧化物NbOx(0<x<1,1<x<2)的混閤層.室溫～200℃熱氧化閤金樣品錶麵鈾均以含間隙氧的UO2+x(P型)存在,其U 4 f7/2結閤能較UO2低約0.7 eV.室溫條件下,氧化膜成分主要為UO2;100、200℃熱氧化後,氧化膜中除UO2外,還含有少量P型UO2+x,其U 4 fs/2衛星峰的結閤能為396.6 eV.300℃熱氧化後的閤金樣品錶麵為鈾的高價氧化物(U3O8或UOx,2<x<3),U 4f特徵峰的結閤能分彆為381.8和392.2 eV;氧化層為UO2和金屬鈾的混閤物.熱氧化過程中,溫度對鈾氧化的影響較對Nb的明顯得多.
채용X사선광전보분석기술、결합Ar리자창천사,연구료대기배경、불동온도(실온、100、200화300 ℃)조건하유니합금양품표면양화막결구적변화정황.실험결과표명:수온도승고,양화막후도증대,양화막결구발생명현변화.불동온도열양화처리후,유니합금초시표면Nb주요이Nb2O5형식존재,재Nb2O5여금속Nb지간,총존재일정후도적NbO급소량기타개태양화물NbOx(0<x<1,1<x<2)적혼합층.실온～200℃열양화합금양품표면유균이함간극양적UO2+x(P형)존재,기U 4 f7/2결합능교UO2저약0.7 eV.실온조건하,양화막성분주요위UO2;100、200℃열양화후,양화막중제UO2외,환함유소량P형UO2+x,기U 4 fs/2위성봉적결합능위396.6 eV.300℃열양화후적합금양품표면위유적고개양화물(U3O8혹UOx,2<x<3),U 4f특정봉적결합능분별위381.8화392.2 eV;양화층위UO2화금속유적혼합물.열양화과정중,온도대유양화적영향교대Nb적명현득다.
