CAJ | 학술논문

首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战.随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础,基于表面等离子体的纳米光刻作为一种新兴技术有望突破45 nm节点从而极大提高光刻的分辨力.介绍了表面等离子体的特性,对表面等离子体(SPs)在光刻中的应用作了回顾和分析,指出在现有的利用表面等离子体进行纳米光刻的实验装置中,或采用单层膜的超透镜(Superlens),或采用多层膜的Superlens,但都面临着如何克服近场光刻这一难题;结合作者现有课题分析了表面等离子体光刻的发展方向,认为结合多层膜的远场纳米光刻方法是表面等离子体光刻的发展方向.
수선개소료광각기술적발전급기면림적도전.수착납미가공기술적발전,납미결구기건필장성위미래집성전로적기출,이납미광각기술시납미결구제작적기출,기우표면등리자체적납미광각작위일충신흥기술유망돌파45 nm절점종이겁대제고광각적분변력.개소료표면등리자체적특성,대표면등리자체(SPs)재광각중적응용작료회고화분석,지출재현유적이용표면등리자체진행납미광각적실험장치중,혹채용단층막적초투경(Superlens),혹채용다층막적Superlens,단도면림착여하극복근장광각저일난제;결합작자현유과제분석료표면등리자체광각적발전방향,인위결합다층막적원장납미광각방법시표면등리자체광각적발전방향.