193 nm光刻胶的研制
193 nm광각효적연제
The Study of 193 nm Photoresist
  • 万方数据
    感光科学与光化学 감광과학여광화학
    PHOTOGRAPHIC SCIENCE AND PHOTOCHEMISTRY
    2005年 4期 300-311 ,共12页

    郑金红%黄志齐%陈昕%焦小明%杨澜%文武%高子奇%王艳梅

    정금홍%황지제%진흔%초소명%양란%문무%고자기%왕염매

    193 nm%光刻胶%单体%主体树脂%光致产酸剂%配方 193 nm%光刻膠%單體%主體樹脂%光緻產痠劑%配方
    193 nm%광각효%단체%주체수지%광치산산제%배방
    从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193 nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品经美国SEMATECH实验室应用评价其最佳分辨率为0.1μm,最小曝光量为26 mJ/cm2,不但具有优异的分辨率和光敏性,而且还具有良好的粘附性和抗干法腐蚀性.
    종주체수지적결구설계、단체적합성공예、주체수지적합성공예、광치산산제적평개、배방연구등다개방면논술료193 nm광각효적연제공예,합성출료다충괄용적단체급다충결구적주체수지,진행료대량적배방연구,사선출료최가배방.연제출적양품경미국SEMATECH실험실응용평개기최가분변솔위0.1μm,최소폭광량위26 mJ/cm2,불단구유우이적분변솔화광민성,이차환구유량호적점부성화항간법부식성.
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