稀有金属
稀有金屬
희유금속
CHINESE JOURNAL OF RARE METALS
2008年
5期
627-630
,共4页
刘慧舟%杨坚%张华%古宏伟
劉慧舟%楊堅%張華%古宏偉
류혜주%양견%장화%고굉위
涂层导体%连续沉积(隔离层)%Y2O3%电子束蒸发%溅射
塗層導體%連續沉積(隔離層)%Y2O3%電子束蒸髮%濺射
도층도체%련속침적(격리층)%Y2O3%전자속증발%천사
采用电子束蒸发和磁控溅射两种工艺在移动的Ni-5W合金基带上制备了Y2O3隔离层,研究了镀膜过程中基带移动速度对隔离层性能的影响,同时详细比较了两种镀膜方法.利用扫描电镜、X射线衍射等手段对Y2O3隔离层进行了分析.结果表明:通过严格控制工艺条件,两种方法都能在移动Ni-5W合金基带上制备高立方织构、表面致密光滑的Y2O3隔离层.研究发现,电子束蒸发工艺中,理想的基带移动速度是0.4～1.0 mm·s-1;磁控溅射工艺中,适宜的基带移动速度应该是0.5～2.0mm·s-1.
採用電子束蒸髮和磁控濺射兩種工藝在移動的Ni-5W閤金基帶上製備瞭Y2O3隔離層,研究瞭鍍膜過程中基帶移動速度對隔離層性能的影響,同時詳細比較瞭兩種鍍膜方法.利用掃描電鏡、X射線衍射等手段對Y2O3隔離層進行瞭分析.結果錶明:通過嚴格控製工藝條件,兩種方法都能在移動Ni-5W閤金基帶上製備高立方織構、錶麵緻密光滑的Y2O3隔離層.研究髮現,電子束蒸髮工藝中,理想的基帶移動速度是0.4～1.0 mm·s-1;磁控濺射工藝中,適宜的基帶移動速度應該是0.5～2.0mm·s-1.
채용전자속증발화자공천사량충공예재이동적Ni-5W합금기대상제비료Y2O3격리층,연구료도막과정중기대이동속도대격리층성능적영향,동시상세비교료량충도막방법.이용소묘전경、X사선연사등수단대Y2O3격리층진행료분석.결과표명:통과엄격공제공예조건,량충방법도능재이동Ni-5W합금기대상제비고립방직구、표면치밀광활적Y2O3격리층.연구발현,전자속증발공예중,이상적기대이동속도시0.4～1.0 mm·s-1;자공천사공예중,괄의적기대이동속도응해시0.5～2.0mm·s-1.
