半导体学报
半導體學報
반도체학보
CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
2003年
6期
663-667
,共5页
虞献文%朱荣锦%朱自强%应桃开%李爱珍
虞獻文%硃榮錦%硃自彊%應桃開%李愛珍
우헌문%주영금%주자강%응도개%리애진
多孔硅%阴极还原%表面处理技术
多孔硅%陰極還原%錶麵處理技術
다공규%음겁환원%표면처리기술
研究了多孔硅的阴极还原表面处理技术,通过该技术获得了表面平滑度良好、稳定度高、抗压强度高和耐高温性能好且在空气中可以长期干燥保存的多孔硅样品.在其表面上可以进行光刻、镀金等工艺,因此,可应用于制作器件甚至电路集成.
研究瞭多孔硅的陰極還原錶麵處理技術,通過該技術穫得瞭錶麵平滑度良好、穩定度高、抗壓彊度高和耐高溫性能好且在空氣中可以長期榦燥保存的多孔硅樣品.在其錶麵上可以進行光刻、鍍金等工藝,因此,可應用于製作器件甚至電路集成.
연구료다공규적음겁환원표면처리기술,통과해기술획득료표면평활도량호、은정도고、항압강도고화내고온성능호차재공기중가이장기간조보존적다공규양품.재기표면상가이진행광각、도금등공예,인차,가응용우제작기건심지전로집성.
