高分子学报
高分子學報
고분자학보
ACTA POLYMERICA SINICA
2003年
2期
186-191
,共6页
宗骐%李治%方健%孔祥明%谢续明
宗騏%李治%方健%孔祥明%謝續明
종기%리치%방건%공상명%사속명
高分子共混物%基板%薄膜%润湿性
高分子共混物%基闆%薄膜%潤濕性
고분자공혼물%기판%박막%윤습성
研究了玻璃基板作用下极性高聚物为低组分的共混物薄膜在退火条件下相形态的发展过程.选用聚苯乙烯(PS)/聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)与聚苯乙烯(PS)/聚ε-己内酯(PCL)两个体系,在玻璃基板上Spin-Coating成膜后退火.由于共混物薄膜中极性相对较大的高聚物组分(PMMA和PCL)相对于极性较小的PS组分对玻璃基板具有更好的润湿性,所以在上述的两个共混薄膜体系中其相形态分别显示PMMA和PCL在低组分比例下最终发展成为连续相.利用扫描电镜以及元素分析很好地验证了以上的结论,并且对其机理进行了解释.此外,改变PS的分子量与PCL共混,研究了组分粘度对薄膜相形态发展的影响.结果表明,PS组分粘度越大,共混物薄膜相结构发展速度越慢.
研究瞭玻璃基闆作用下極性高聚物為低組分的共混物薄膜在退火條件下相形態的髮展過程.選用聚苯乙烯(PS)/聚甲基丙烯痠甲酯(PMMA)與聚苯乙烯(PS)/聚ε-己內酯(PCL)兩箇體繫,在玻璃基闆上Spin-Coating成膜後退火.由于共混物薄膜中極性相對較大的高聚物組分(PMMA和PCL)相對于極性較小的PS組分對玻璃基闆具有更好的潤濕性,所以在上述的兩箇共混薄膜體繫中其相形態分彆顯示PMMA和PCL在低組分比例下最終髮展成為連續相.利用掃描電鏡以及元素分析很好地驗證瞭以上的結論,併且對其機理進行瞭解釋.此外,改變PS的分子量與PCL共混,研究瞭組分粘度對薄膜相形態髮展的影響.結果錶明,PS組分粘度越大,共混物薄膜相結構髮展速度越慢.
연구료파리기판작용하겁성고취물위저조분적공혼물박막재퇴화조건하상형태적발전과정.선용취분을희(PS)/취갑기병희산갑지(PMMA)여취분을희(PS)/취ε-기내지(PCL)량개체계,재파리기판상Spin-Coating성막후퇴화.유우공혼물박막중겁성상대교대적고취물조분(PMMA화PCL)상대우겁성교소적PS조분대파리기판구유경호적윤습성,소이재상술적량개공혼박막체계중기상형태분별현시PMMA화PCL재저조분비례하최종발전성위련속상.이용소묘전경이급원소분석흔호지험증료이상적결론,병차대기궤리진행료해석.차외,개변PS적분자량여PCL공혼,연구료조분점도대박막상형태발전적영향.결과표명,PS조분점도월대,공혼물박막상결구발전속도월만.
