电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
1999年
1期
76-79
,共4页
陶宏杰%杨海涛%张鹰子%杨多贵%李林%赵忠贤
陶宏傑%楊海濤%張鷹子%楊多貴%李林%趙忠賢
도굉걸%양해도%장응자%양다귀%리림%조충현
原子力显微学%Bi2Sr1.6La0.4CuO6+δ薄膜%高温超导体%梯田岛模式%台阶流模式
原子力顯微學%Bi2Sr1.6La0.4CuO6+δ薄膜%高溫超導體%梯田島模式%檯階流模式
원자력현미학%Bi2Sr1.6La0.4CuO6+δ박막%고온초도체%제전도모식%태계류모식
利用AFM对在(100)和与(100)有6°切偏角的SrTiO3基片上用射频溅射方法制备的高温超导Bi2Sr1.6La0.4CuO6+δ(Bi2201)薄膜的生长模式进行了系统地研究.对应以上两类不同切割的基片,实验观察到两种不同的薄膜生长模式.对切偏角小于0.4°的(100)SrTiO3基片,本征的生长模式是梯田岛模式(Volmer-Weber模式),每层的厚度为c/2(1.25nm);在切偏角为6°的衬底上沉积的Bi2201薄膜则以台阶流模式(Step-flow mode)生长.Bi系高温超导体的本征的二维特性决定了薄膜的生长模式.
利用AFM對在(100)和與(100)有6°切偏角的SrTiO3基片上用射頻濺射方法製備的高溫超導Bi2Sr1.6La0.4CuO6+δ(Bi2201)薄膜的生長模式進行瞭繫統地研究.對應以上兩類不同切割的基片,實驗觀察到兩種不同的薄膜生長模式.對切偏角小于0.4°的(100)SrTiO3基片,本徵的生長模式是梯田島模式(Volmer-Weber模式),每層的厚度為c/2(1.25nm);在切偏角為6°的襯底上沉積的Bi2201薄膜則以檯階流模式(Step-flow mode)生長.Bi繫高溫超導體的本徵的二維特性決定瞭薄膜的生長模式.
이용AFM대재(100)화여(100)유6°절편각적SrTiO3기편상용사빈천사방법제비적고온초도Bi2Sr1.6La0.4CuO6+δ(Bi2201)박막적생장모식진행료계통지연구.대응이상량류불동절할적기편,실험관찰도량충불동적박막생장모식.대절편각소우0.4°적(100)SrTiO3기편,본정적생장모식시제전도모식(Volmer-Weber모식),매층적후도위c/2(1.25nm);재절편각위6°적츤저상침적적Bi2201박막칙이태계류모식(Step-flow mode)생장.Bi계고온초도체적본정적이유특성결정료박막적생장모식.
