材料科学与工艺
材料科學與工藝
재료과학여공예
MATERIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY
2002年
3期
295-298
,共4页
RF磁控溅射%TiNi(1-x)Cux合金薄膜%组织形貌
RF磁控濺射%TiNi(1-x)Cux閤金薄膜%組織形貌
RF자공천사%TiNi(1-x)Cux합금박막%조직형모
采用RF磁控溅射技术制备了TiNi(1-x) Cux合金薄膜,利用扫描电镜、电子能谱仪和XRD技术分析研究了RF磁控溅射工艺对TiNi(1-x)Cux合金薄膜组织形貌的影响规律.结果表明:在基片不加热的条件下溅射薄膜组织结构为非晶,并呈柱状形貌垂直于基片生长;经650～720℃,3 min退火处理后,薄膜均发生晶化转变;在他它条件相同的情况下,溅射功率和工作气压对薄膜组织形貌有很大影响;薄膜的柱状单胞直径、薄膜厚度和生长速度均随溅射功率的增长而增长,但当溅射功率一定时,工作气压增加使柱状单胞直径、薄膜厚度和薄膜的生长速率显著减小;RF磁控溅射过程中,沉积原子的活性及其沉积速率是影响薄膜组织形貌的主要原因.
採用RF磁控濺射技術製備瞭TiNi(1-x) Cux閤金薄膜,利用掃描電鏡、電子能譜儀和XRD技術分析研究瞭RF磁控濺射工藝對TiNi(1-x)Cux閤金薄膜組織形貌的影響規律.結果錶明:在基片不加熱的條件下濺射薄膜組織結構為非晶,併呈柱狀形貌垂直于基片生長;經650～720℃,3 min退火處理後,薄膜均髮生晶化轉變;在他它條件相同的情況下,濺射功率和工作氣壓對薄膜組織形貌有很大影響;薄膜的柱狀單胞直徑、薄膜厚度和生長速度均隨濺射功率的增長而增長,但噹濺射功率一定時,工作氣壓增加使柱狀單胞直徑、薄膜厚度和薄膜的生長速率顯著減小;RF磁控濺射過程中,沉積原子的活性及其沉積速率是影響薄膜組織形貌的主要原因.
채용RF자공천사기술제비료TiNi(1-x) Cux합금박막,이용소묘전경、전자능보의화XRD기술분석연구료RF자공천사공예대TiNi(1-x)Cux합금박막조직형모적영향규률.결과표명:재기편불가열적조건하천사박막조직결구위비정,병정주상형모수직우기편생장;경650～720℃,3 min퇴화처리후,박막균발생정화전변;재타타조건상동적정황하,천사공솔화공작기압대박막조직형모유흔대영향;박막적주상단포직경、박막후도화생장속도균수천사공솔적증장이증장,단당천사공솔일정시,공작기압증가사주상단포직경、박막후도화박막적생장속솔현저감소;RF자공천사과정중,침적원자적활성급기침적속솔시영향박막조직형모적주요원인.
