CAJ | 학술논문

应用循环伏安法、X射线光电子能谱法、电化学阻抗谱法以及现场椭圆偏光法研究了在弱碱性介质中添加Cl-对铜电极腐蚀行为的影响.结果表明,Cl-的加入能加剧铜电极的腐蚀,使腐蚀电流以及现场椭圆偏振参数△的变化范围都增大1个数量级,Cl-对Cu2O的掺杂将使铜电极的表面膜变得疏松,膜的耐蚀性变差.椭圆偏光实验不仅与电化学和能谱实验的结果一致,而且还能定性地、清楚地分辨出铜电极腐蚀过程中Cu2O的生成、Cl-对Cu2O的掺杂、CuO的生成等不同阶段;同时,利用恰当的模型还能定量地确定各个阶段铜电极表面膜的组成、厚度的变化,从而为研究铜电极的腐蚀与防护机理提供更多有用信息.
응용순배복안법、X사선광전자능보법、전화학조항보법이급현장타원편광법연구료재약감성개질중첨가Cl-대동전겁부식행위적영향.결과표명,Cl-적가입능가극동전겁적부식,사부식전류이급현장타원편진삼수△적변화범위도증대1개수량급,Cl-대Cu2O적참잡장사동전겁적표면막변득소송,막적내식성변차.타원편광실험불부여전화학화능보실험적결과일치,이차환능정성지、청초지분변출동전겁부식과정중Cu2O적생성、Cl-대Cu2O적참잡、CuO적생성등불동계단;동시,이용흡당적모형환능정량지학정각개계단동전겁표면막적조성、후도적변화,종이위연구동전겁적부식여방호궤리제공경다유용신식.