电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2003年
3期
55-57
,共3页
廖佐(日升)%范迎新%任伟%王萍%李学文%杨基南
廖佐(日升)%範迎新%任偉%王萍%李學文%楊基南
료좌(일승)%범영신%임위%왕평%리학문%양기남
液态源%等离子体%化学气相沉积%设备
液態源%等離子體%化學氣相沉積%設備
액태원%등리자체%화학기상침적%설비
采用液态有机硅源的等离子体增强化学气相淀积设备是通向深亚微米时代的桥梁.介绍研制的液态源化学气相淀积设备的工作原理、结构特点和工艺结果,制备的SiO2薄膜膜厚均匀性±2%,折射率1.452±0.014,生长速率40 nm/min.
採用液態有機硅源的等離子體增彊化學氣相澱積設備是通嚮深亞微米時代的橋樑.介紹研製的液態源化學氣相澱積設備的工作原理、結構特點和工藝結果,製備的SiO2薄膜膜厚均勻性±2%,摺射率1.452±0.014,生長速率40 nm/min.
채용액태유궤규원적등리자체증강화학기상정적설비시통향심아미미시대적교량.개소연제적액태원화학기상정적설비적공작원리、결구특점화공예결과,제비적SiO2박막막후균균성±2%,절사솔1.452±0.014,생장속솔40 nm/min.
