光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2005年
4期
533-537
,共5页
谌廷政%吕海宝%高益庆%漆新民%罗宁宁
諶廷政%呂海寶%高益慶%漆新民%囉寧寧
심정정%려해보%고익경%칠신민%라저저
应用光学%灰度掩模%掩模分形%边缘锐度%光刻
應用光學%灰度掩模%掩模分形%邊緣銳度%光刻
응용광학%회도엄모%엄모분형%변연예도%광각
针对电寻址空间光调制器制作灰度掩模过程中,精缩透镜的低通滤波特性导致灰度掩模边缘锐度下降的问题,提出了掩模分形技术.对一幅高频灰阶掩模图形,按固定的或可变的低频采样.低频掩模的每个周期中,只包含原掩模图形多个周期中的一个抽样.通过实时掩模技术,将多个低频掩模按顺序曝光,从而恢复出原高频掩模图形.制作二元光栅时,分形掩模技术可使透镜造成的高频能量相对损失由35.23%降低至6.09%,同时,可将部分低频能量搬迁至中高频,较好地改善了灰阶掩模图形的边缘锐度.分形掩模还可以变多灰阶复杂掩模为简单的二元掩模,简化掩模的设计与实现,同时消除屏幕刷新率对掩模制作的影响.
針對電尋阯空間光調製器製作灰度掩模過程中,精縮透鏡的低通濾波特性導緻灰度掩模邊緣銳度下降的問題,提齣瞭掩模分形技術.對一幅高頻灰階掩模圖形,按固定的或可變的低頻採樣.低頻掩模的每箇週期中,隻包含原掩模圖形多箇週期中的一箇抽樣.通過實時掩模技術,將多箇低頻掩模按順序曝光,從而恢複齣原高頻掩模圖形.製作二元光柵時,分形掩模技術可使透鏡造成的高頻能量相對損失由35.23%降低至6.09%,同時,可將部分低頻能量搬遷至中高頻,較好地改善瞭灰階掩模圖形的邊緣銳度.分形掩模還可以變多灰階複雜掩模為簡單的二元掩模,簡化掩模的設計與實現,同時消除屏幕刷新率對掩模製作的影響.
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