电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2008年
4期
20-23
,共4页
蒋建朋%俞宏英%孙冬柏%孟惠民%樊自栓%王旭东
蔣建朋%俞宏英%孫鼕柏%孟惠民%樊自栓%王旭東
장건붕%유굉영%손동백%맹혜민%번자전%왕욱동
镁合金%化学镀镍%镀层结构%耐蚀性%耐磨性
鎂閤金%化學鍍鎳%鍍層結構%耐蝕性%耐磨性
미합금%화학도얼%도층결구%내식성%내마성
采用直接化学镀的方法在AZ91D镁合金上化学镀镍,通过改变镀液pH获得不同磷质量分数的镀层,研究了磷质量分数对镀层结构、硬度、耐磨性和耐蚀性的影响.结果表明:随着磷质量分数的降低,镀层结构由非晶态向晶态转变;镀层硬度比AZ91D镁合金基体提高了5～6倍;磷质量分数为2.4%的低磷镀层,具有很好的耐蚀耐磨性能.
採用直接化學鍍的方法在AZ91D鎂閤金上化學鍍鎳,通過改變鍍液pH穫得不同燐質量分數的鍍層,研究瞭燐質量分數對鍍層結構、硬度、耐磨性和耐蝕性的影響.結果錶明:隨著燐質量分數的降低,鍍層結構由非晶態嚮晶態轉變;鍍層硬度比AZ91D鎂閤金基體提高瞭5～6倍;燐質量分數為2.4%的低燐鍍層,具有很好的耐蝕耐磨性能.
채용직접화학도적방법재AZ91D미합금상화학도얼,통과개변도액pH획득불동린질량분수적도층,연구료린질량분수대도층결구、경도、내마성화내식성적영향.결과표명:수착린질량분수적강저,도층결구유비정태향정태전변;도층경도비AZ91D미합금기체제고료5～6배;린질량분수위2.4%적저린도층,구유흔호적내식내마성능.
