磁控溅射法制备高反射铝膜
자공천사법제비고반사려막
PREPARATION OF ALUMINUM THIN FILM BY MAGNETRON SPUTTERING
  • 万方数据
    真空与低温 진공여저온
    VACUUM AND CRYOGENICS
    2008年 3期 164-166 ,共3页

    赵印中%许旻%李林%何延春%王洁冰%吴春华%邱家稳

    조인중%허민%리림%하연춘%왕길빙%오춘화%구가은

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    通过先后调整溅射沉积时间、溅射功率以及溅射气压等镀膜参数,然后结合所镀样品的反射牢测量,分析了镀膜参数对铝膜反射率的影响;通过调整不同的离子柬清洗时间,结合所镀样品的太阳光谱反射率测量以及附着力测试,研究了离子束清洗对铝膜性能的影响.结果表明,在这些影响因素中离子束清洗对铝膜性能的影响很大.
    통과선후조정천사침적시간、천사공솔이급천사기압등도막삼수,연후결합소도양품적반사뢰측량,분석료도막삼수대려막반사솔적영향;통과조정불동적리자간청세시간,결합소도양품적태양광보반사솔측량이급부착력측시,연구료리자속청세대려막성능적영향.결과표명,재저사영향인소중리자속청세대려막성능적영향흔대.
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