无机材料学报
無機材料學報
무궤재료학보
JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS
2009年
2期
392-396
,共5页
吴恒%李贺军%王永杰%付前刚%何子博%魏建锋
吳恆%李賀軍%王永傑%付前剛%何子博%魏建鋒
오항%리하군%왕영걸%부전강%하자박%위건봉
LPCVD%MoSi2涂层%微观结构%性能%沉积温度
LPCVD%MoSi2塗層%微觀結構%性能%沉積溫度
LPCVD%MoSi2도층%미관결구%성능%침적온도
以SiCl4和H2为原料,采用低压化学气相沉积(LPCVD)渗硅法在Mo基体表面原位反应制备了MoSi2涂层,研究了沉积温度对MoSi2涂层微观形貌、物相组成、沉积速率、涂层的硬度、涂层与基体结合强度的影响.研究结果表明:在1100～1200℃下制备的涂层结构致密,由单一MoSi2组成,沉积速率、涂层的硬度以及与基体的结合强度均表现为増加的趋势;当沉积温度高于1200℃,涂层出现开裂现象,由游离Si和MoSi2两相组成,涂层沉积速率、硬度和结合强度均出现下降的趋势.1100℃以下沉积的主要控制步骤为Si与Mo反应,而1100℃以上Si在涂层中的扩散对沉积过程起控制作用.
以SiCl4和H2為原料,採用低壓化學氣相沉積(LPCVD)滲硅法在Mo基體錶麵原位反應製備瞭MoSi2塗層,研究瞭沉積溫度對MoSi2塗層微觀形貌、物相組成、沉積速率、塗層的硬度、塗層與基體結閤彊度的影響.研究結果錶明:在1100～1200℃下製備的塗層結構緻密,由單一MoSi2組成,沉積速率、塗層的硬度以及與基體的結閤彊度均錶現為増加的趨勢;噹沉積溫度高于1200℃,塗層齣現開裂現象,由遊離Si和MoSi2兩相組成,塗層沉積速率、硬度和結閤彊度均齣現下降的趨勢.1100℃以下沉積的主要控製步驟為Si與Mo反應,而1100℃以上Si在塗層中的擴散對沉積過程起控製作用.
이SiCl4화H2위원료,채용저압화학기상침적(LPCVD)삼규법재Mo기체표면원위반응제비료MoSi2도층,연구료침적온도대MoSi2도층미관형모、물상조성、침적속솔、도층적경도、도층여기체결합강도적영향.연구결과표명:재1100～1200℃하제비적도층결구치밀,유단일MoSi2조성,침적속솔、도층적경도이급여기체적결합강도균표현위증가적추세;당침적온도고우1200℃,도층출현개렬현상,유유리Si화MoSi2량상조성,도층침적속솔、경도화결합강도균출현하강적추세.1100℃이하침적적주요공제보취위Si여Mo반응,이1100℃이상Si재도층중적확산대침적과정기공제작용.
