电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
2012年
2期
116-123
,共8页
廖元飞%陈江华%刘春辉%李祥亮%冯佳妮
廖元飛%陳江華%劉春輝%李祥亮%馮佳妮
료원비%진강화%류춘휘%리상량%풍가니
铝合金%晶界%析出相%时效%电子显微学
鋁閤金%晶界%析齣相%時效%電子顯微學
려합금%정계%석출상%시효%전자현미학
采用显微硬度测试仪、扫描电镜和透射电镜观察及能谱分析,研究了Al-0.5Mg-1.0Si-0.8Cu( wt.%)合金的晶界析出规律和晶内析出相的粗化机制.结果表明:180℃时效处理的Al-0.5Mg-1.0Si-0.8Cu(wt.%)合金晶界处存在富Si相和Q相两类不连续分布的析出相,它们的尺寸分别约为1 mm和几十纳米;时效0.5h时晶界处有少量富Si相,时效5h时晶界富Si相明显增多,时效36 h时富Si相开始粗化且间距变大,再进一步时效其形貌和分布变化不大;晶界Q相与相邻晶粒铝基体的界面取向关系是:[510]Al//[1120-]Q;时效36 h晶内开始出现粗化析出相,且随时效继续进行合金晶内析出大量粗化相,存在明显的晶界无析出带现象.晶内粗化析出相主要含有Si元素,呈片状、球状和棒状3种形貌.其中,棒状Si析出相是沿<001>Al方向生长的,且<112->Si//<001>Al,{111-}Si//{010}Al.
採用顯微硬度測試儀、掃描電鏡和透射電鏡觀察及能譜分析,研究瞭Al-0.5Mg-1.0Si-0.8Cu( wt.%)閤金的晶界析齣規律和晶內析齣相的粗化機製.結果錶明:180℃時效處理的Al-0.5Mg-1.0Si-0.8Cu(wt.%)閤金晶界處存在富Si相和Q相兩類不連續分佈的析齣相,它們的呎吋分彆約為1 mm和幾十納米;時效0.5h時晶界處有少量富Si相,時效5h時晶界富Si相明顯增多,時效36 h時富Si相開始粗化且間距變大,再進一步時效其形貌和分佈變化不大;晶界Q相與相鄰晶粒鋁基體的界麵取嚮關繫是:[510]Al//[1120-]Q;時效36 h晶內開始齣現粗化析齣相,且隨時效繼續進行閤金晶內析齣大量粗化相,存在明顯的晶界無析齣帶現象.晶內粗化析齣相主要含有Si元素,呈片狀、毬狀和棒狀3種形貌.其中,棒狀Si析齣相是沿<001>Al方嚮生長的,且<112->Si//<001>Al,{111-}Si//{010}Al.
채용현미경도측시의、소묘전경화투사전경관찰급능보분석,연구료Al-0.5Mg-1.0Si-0.8Cu( wt.%)합금적정계석출규률화정내석출상적조화궤제.결과표명:180℃시효처리적Al-0.5Mg-1.0Si-0.8Cu(wt.%)합금정계처존재부Si상화Q상량류불련속분포적석출상,타문적척촌분별약위1 mm화궤십납미;시효0.5h시정계처유소량부Si상,시효5h시정계부Si상명현증다,시효36 h시부Si상개시조화차간거변대,재진일보시효기형모화분포변화불대;정계Q상여상린정립려기체적계면취향관계시:[510]Al//[1120-]Q;시효36 h정내개시출현조화석출상,차수시효계속진행합금정내석출대량조화상,존재명현적정계무석출대현상.정내조화석출상주요함유Si원소,정편상、구상화봉상3충형모.기중,봉상Si석출상시연<001>Al방향생장적,차<112->Si//<001>Al,{111-}Si//{010}Al.