稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2009年
5期
895-900
,共6页
刘璐%杨志刚%刘殿龙%张弛
劉璐%楊誌剛%劉殿龍%張弛
류로%양지강%류전룡%장이
化学沉积%自组装层%NiMoP阻挡层
化學沉積%自組裝層%NiMoP阻擋層
화학침적%자조장층%NiMoP조당층
应用自组装膜吸附钯的活化方法,在SiO2/Si平面基板表面化学沉积NiMoP阻挡层.应用XRF、XRD、SEM以及四探针等方法探讨了镀液中钼酸根浓度、温度及pH值对NiMoP镀层的影响.结果表明,镀层中Mo与P含量互相制约;随钼酸钠浓度上升,化学镀NiMoP的沉积速度逐渐降低,镀层结构由非晶态向晶态转变,镀层电阻率降低;随镀液温度上升,NiMoP镀层的沉积速度逐渐升高;镀液pH值在一定范围内上升可提高NiMoP镀层的沉积速度,镀层的晶粒尺寸与沉积速度有相同的变化趋势.
應用自組裝膜吸附鈀的活化方法,在SiO2/Si平麵基闆錶麵化學沉積NiMoP阻擋層.應用XRF、XRD、SEM以及四探針等方法探討瞭鍍液中鉬痠根濃度、溫度及pH值對NiMoP鍍層的影響.結果錶明,鍍層中Mo與P含量互相製約;隨鉬痠鈉濃度上升,化學鍍NiMoP的沉積速度逐漸降低,鍍層結構由非晶態嚮晶態轉變,鍍層電阻率降低;隨鍍液溫度上升,NiMoP鍍層的沉積速度逐漸升高;鍍液pH值在一定範圍內上升可提高NiMoP鍍層的沉積速度,鍍層的晶粒呎吋與沉積速度有相同的變化趨勢.
응용자조장막흡부파적활화방법,재SiO2/Si평면기판표면화학침적NiMoP조당층.응용XRF、XRD、SEM이급사탐침등방법탐토료도액중목산근농도、온도급pH치대NiMoP도층적영향.결과표명,도층중Mo여P함량호상제약;수목산납농도상승,화학도NiMoP적침적속도축점강저,도층결구유비정태향정태전변,도층전조솔강저;수도액온도상승,NiMoP도층적침적속도축점승고;도액pH치재일정범위내상승가제고NiMoP도층적침적속도,도층적정립척촌여침적속도유상동적변화추세.
