光学技术
光學技術
광학기술
OPTICAL TECHNOLOGY
2005年
2期
224-226
,共3页
张东平%张大伟%范树海%赵元安%邵建达%范正修
張東平%張大偉%範樹海%趙元安%邵建達%範正脩
장동평%장대위%범수해%조원안%소건체%범정수
薄膜%氧等离子体%氧化锆
薄膜%氧等離子體%氧化鋯
박막%양등리자체%양화고
用低能氧等离子体对电子束热蒸发后的沉积氧化锆薄膜进行了后处理.通过对其光学性质、缺陷密度、弱吸收及抗激光辐照等性质的研究后发现,经氧等离子体处理后的氧化锆薄膜的折射率、消光系数、缺陷密度及吸收率等均有所降低,薄膜的激光损伤阈值较未处理的样品有了较大的提高.分析探讨了氧等离子体处理技术对薄膜性质的影响.
用低能氧等離子體對電子束熱蒸髮後的沉積氧化鋯薄膜進行瞭後處理.通過對其光學性質、缺陷密度、弱吸收及抗激光輻照等性質的研究後髮現,經氧等離子體處理後的氧化鋯薄膜的摺射率、消光繫數、缺陷密度及吸收率等均有所降低,薄膜的激光損傷閾值較未處理的樣品有瞭較大的提高.分析探討瞭氧等離子體處理技術對薄膜性質的影響.
용저능양등리자체대전자속열증발후적침적양화고박막진행료후처리.통과대기광학성질、결함밀도、약흡수급항격광복조등성질적연구후발현,경양등리자체처리후적양화고박막적절사솔、소광계수、결함밀도급흡수솔등균유소강저,박막적격광손상역치교미처리적양품유료교대적제고.분석탐토료양등리자체처리기술대박막성질적영향.
