半导体技术
半導體技術
반도체기술
SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
2009年
7期
669-671
,共3页
时间依赖性雾(TDH)%酸根离子%碱根离子%颗粒%光散射
時間依賴性霧(TDH)%痠根離子%堿根離子%顆粒%光散射
시간의뢰성무(TDH)%산근리자%감근리자%과립%광산사
阐述了Si片表面时间依赖性雾的形成过程、分布、形状、密度及识别和去除的方法.通过同样流程清洗、不同条件干燥处理的Si片在不同湿度条件下储存的实验,指出了时间依赖性雾是H与掺杂原子的联合体以及雾是Si片表面与H2O或O2反应生成SiO2颗粒两种解释的不准确性.提出了时间依赖性雾是含有离子或有机物沾污的水汽在Si表面浓缩而形成的光散射.在总结和比对分析实验结果的基础上,得到了控制时间依赖性雾的生成、延长Si片存储时间的有效方法.
闡述瞭Si片錶麵時間依賴性霧的形成過程、分佈、形狀、密度及識彆和去除的方法.通過同樣流程清洗、不同條件榦燥處理的Si片在不同濕度條件下儲存的實驗,指齣瞭時間依賴性霧是H與摻雜原子的聯閤體以及霧是Si片錶麵與H2O或O2反應生成SiO2顆粒兩種解釋的不準確性.提齣瞭時間依賴性霧是含有離子或有機物霑汙的水汽在Si錶麵濃縮而形成的光散射.在總結和比對分析實驗結果的基礎上,得到瞭控製時間依賴性霧的生成、延長Si片存儲時間的有效方法.
천술료Si편표면시간의뢰성무적형성과정、분포、형상、밀도급식별화거제적방법.통과동양류정청세、불동조건간조처리적Si편재불동습도조건하저존적실험,지출료시간의뢰성무시H여참잡원자적연합체이급무시Si편표면여H2O혹O2반응생성SiO2과립량충해석적불준학성.제출료시간의뢰성무시함유리자혹유궤물첨오적수기재Si표면농축이형성적광산사.재총결화비대분석실험결과적기출상,득도료공제시간의뢰성무적생성、연장Si편존저시간적유효방법.
