无掩模激光干涉光刻技术研究术
무엄모격광간섭광각기술연구술
Study of interferometric lithography without masks
  • 万方数据
    微纳电子技术 미납전자기술
    MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
    2002年 3期 39-42 ,共4页

    冯伯儒%张锦%宗德蓉%蒋世磊%苏平%陈宝钦%陈芬

    풍백유%장금%종덕용%장세뢰%소평%진보흠%진분

    微光刻技术%干涉光刻%场发射显示器%无掩模光刻技术 微光刻技術%榦涉光刻%場髮射顯示器%無掩模光刻技術
    미광각기술%간섭광각%장발사현시기%무엄모광각기술
    介绍了一种不用掩模的光刻技术--激光干涉光刻技术的基本原理,给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用,并对实验系统和初步实验结果进行了分析.研究表明,激光干涉光刻具有大视场和分辨率高和视场宽等优点.
    개소료일충불용엄모적광각기술--격광간섭광각기술적기본원리,급출료간섭광각기술적주요특점급일사가능적응용,병대실험계통화초보실험결과진행료분석.연구표명,격광간섭광각구유대시장화분변솔고화시장관등우점.
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