材料保护
材料保護
재료보호
MATERIALS PROTECTION
2009年
3期
44-47
,共4页
脉冲电沉积%三价铬%铬镀层%纳米晶%工艺优化
脈遲電沉積%三價鉻%鉻鍍層%納米晶%工藝優化
맥충전침적%삼개락%락도층%납미정%공예우화
六价铬电沉积工艺毒性高、污染大,三价铬电沉积工艺低毒、低污染,应用前景广阔.运用正交设计法优化了镀铬液配方,确定了其工艺参数,研究了影响脉冲电沉积纳米铬镀层质量的主要工艺因素,分析了镀液组成对铬镀层厚度和电流效率的影响,得到了羧酸盐-尿素体系脉冲电沉积纳米晶铬镀层的最佳工艺.结果表明:影响镀层厚度的主次因素分别是配位剂A(柠檬酸钠)、配位剂B(碳原子数不少于8的一元羧酸盐)和CrCl3˙6H2O的浓度;影响电流效率的主次因素分别是配位剂A、CO(NH2)2和配位剂B的浓度.扫描电镜观察和电子能谱分析结果表明,铬镀层晶粒尺寸小于100nm,厚度均匀,表面光滑,结晶细致.该工艺能制备厚度为11.2um的铬镀层,其电流效率高达25.32%.
六價鉻電沉積工藝毒性高、汙染大,三價鉻電沉積工藝低毒、低汙染,應用前景廣闊.運用正交設計法優化瞭鍍鉻液配方,確定瞭其工藝參數,研究瞭影響脈遲電沉積納米鉻鍍層質量的主要工藝因素,分析瞭鍍液組成對鉻鍍層厚度和電流效率的影響,得到瞭羧痠鹽-尿素體繫脈遲電沉積納米晶鉻鍍層的最佳工藝.結果錶明:影響鍍層厚度的主次因素分彆是配位劑A(檸檬痠鈉)、配位劑B(碳原子數不少于8的一元羧痠鹽)和CrCl3˙6H2O的濃度;影響電流效率的主次因素分彆是配位劑A、CO(NH2)2和配位劑B的濃度.掃描電鏡觀察和電子能譜分析結果錶明,鉻鍍層晶粒呎吋小于100nm,厚度均勻,錶麵光滑,結晶細緻.該工藝能製備厚度為11.2um的鉻鍍層,其電流效率高達25.32%.
륙개락전침적공예독성고、오염대,삼개락전침적공예저독、저오염,응용전경엄활.운용정교설계법우화료도락액배방,학정료기공예삼수,연구료영향맥충전침적납미락도층질량적주요공예인소,분석료도액조성대락도층후도화전류효솔적영향,득도료최산염-뇨소체계맥충전침적납미정락도층적최가공예.결과표명:영향도층후도적주차인소분별시배위제A(저몽산납)、배위제B(탄원자수불소우8적일원최산염)화CrCl3˙6H2O적농도;영향전류효솔적주차인소분별시배위제A、CO(NH2)2화배위제B적농도.소묘전경관찰화전자능보분석결과표명,락도층정립척촌소우100nm,후도균균,표면광활,결정세치.해공예능제비후도위11.2um적락도층,기전류효솔고체25.32%.
