电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2011年
11期
6-10
,共5页
熊亮%张国庆%杨承昭%潘华耿
熊亮%張國慶%楊承昭%潘華耿
웅량%장국경%양승소%반화경
泡沫镍%电镀镍%二氧化钛%纳米复合镀层%光催化
泡沫鎳%電鍍鎳%二氧化鈦%納米複閤鍍層%光催化
포말얼%전도얼%이양화태%납미복합도층%광최화
以多孔泡沫镍为基体,通过在瓦特镀镍液中复合电沉积,得到Ni-TiO2复合镀层.研究了阴极电流密度、pH、时间、镀液中纳米TiO2质量浓度及分散剂种类对Ni-TiO2复合镀层的TiO2含量、表面形貌及光催化性能的影响.通过正交试验得到最佳工艺条件为:TiO2质量浓度10g/L,pH=4.0,阴极电流密度30 mA/cm2,施镀时间30 min,以1g/L十二烷基苯磺酸钠作分散剂.最佳工艺条件下获得的Ni-TiO2复合镀层与泡沫镍基体结合紧密,光催化活性良好.纳米TiO2在镀层中均匀分布,TiO2在镀层中的质量分数和原子分数分别为9.97％和14.31％.
以多孔泡沫鎳為基體,通過在瓦特鍍鎳液中複閤電沉積,得到Ni-TiO2複閤鍍層.研究瞭陰極電流密度、pH、時間、鍍液中納米TiO2質量濃度及分散劑種類對Ni-TiO2複閤鍍層的TiO2含量、錶麵形貌及光催化性能的影響.通過正交試驗得到最佳工藝條件為:TiO2質量濃度10g/L,pH=4.0,陰極電流密度30 mA/cm2,施鍍時間30 min,以1g/L十二烷基苯磺痠鈉作分散劑.最佳工藝條件下穫得的Ni-TiO2複閤鍍層與泡沫鎳基體結閤緊密,光催化活性良好.納米TiO2在鍍層中均勻分佈,TiO2在鍍層中的質量分數和原子分數分彆為9.97％和14.31％.
이다공포말얼위기체,통과재와특도얼액중복합전침적,득도Ni-TiO2복합도층.연구료음겁전류밀도、pH、시간、도액중납미TiO2질량농도급분산제충류대Ni-TiO2복합도층적TiO2함량、표면형모급광최화성능적영향.통과정교시험득도최가공예조건위:TiO2질량농도10g/L,pH=4.0,음겁전류밀도30 mA/cm2,시도시간30 min,이1g/L십이완기분광산납작분산제.최가공예조건하획득적Ni-TiO2복합도층여포말얼기체결합긴밀,광최화활성량호.납미TiO2재도층중균균분포,TiO2재도층중적질량분수화원자분수분별위9.97％화14.31％.
