光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2009年
9期
2624-2629
,共6页
高劲松%申振峰%王笑夷%王彤彤%陈红%郑宣鸣
高勁鬆%申振峰%王笑夷%王彤彤%陳紅%鄭宣鳴
고경송%신진봉%왕소이%왕동동%진홍%정선명
薄膜%表面改性%离子辅助%Si薄膜%SiC薄膜%SiC反射镜
薄膜%錶麵改性%離子輔助%Si薄膜%SiC薄膜%SiC反射鏡
박막%표면개성%리자보조%Si박막%SiC박막%SiC반사경
直接抛光后的SiC反射镜表面光学散射仍较大,无法满足高质量空间光学系统的心用需求.为此必须对SiC反射镜进行表而改性,以获得高质量的光学表面.目前国际上较为流行的足制备Si或SiC改性层进行表面改性.分别采用离子辅助电子束蒸发方法制备Si和SiC改性层进行改性,相关测试结果表明:Si改性层结构为立方相,改性后基底表面粗糙度(rms)降到0.620 nm,散射系数减小到1.52%;SiC改性层结构为非晶相,改性后基底表面粗糙度(rms)降到0.743 nm,散射系数减小到2.79%.两种改性层均与基底结合牢固,温度稳定性较高.从可靠性方面考虑,目前在国内第一种方法更适于实际工程应用.该工艺改性后SiC基底表面散射损耗大大降低,表面质量得到明显改善.镀Ag后表面反射率接近于抛光良好的微晶玻璃的水平,已能够满足高质量空间光学系统的应用需要.
直接拋光後的SiC反射鏡錶麵光學散射仍較大,無法滿足高質量空間光學繫統的心用需求.為此必鬚對SiC反射鏡進行錶而改性,以穫得高質量的光學錶麵.目前國際上較為流行的足製備Si或SiC改性層進行錶麵改性.分彆採用離子輔助電子束蒸髮方法製備Si和SiC改性層進行改性,相關測試結果錶明:Si改性層結構為立方相,改性後基底錶麵粗糙度(rms)降到0.620 nm,散射繫數減小到1.52%;SiC改性層結構為非晶相,改性後基底錶麵粗糙度(rms)降到0.743 nm,散射繫數減小到2.79%.兩種改性層均與基底結閤牢固,溫度穩定性較高.從可靠性方麵攷慮,目前在國內第一種方法更適于實際工程應用.該工藝改性後SiC基底錶麵散射損耗大大降低,錶麵質量得到明顯改善.鍍Ag後錶麵反射率接近于拋光良好的微晶玻璃的水平,已能夠滿足高質量空間光學繫統的應用需要.
직접포광후적SiC반사경표면광학산사잉교대,무법만족고질량공간광학계통적심용수구.위차필수대SiC반사경진행표이개성,이획득고질량적광학표면.목전국제상교위류행적족제비Si혹SiC개성층진행표면개성.분별채용리자보조전자속증발방법제비Si화SiC개성층진행개성,상관측시결과표명:Si개성층결구위립방상,개성후기저표면조조도(rms)강도0.620 nm,산사계수감소도1.52%;SiC개성층결구위비정상,개성후기저표면조조도(rms)강도0.743 nm,산사계수감소도2.79%.량충개성층균여기저결합뢰고,온도은정성교고.종가고성방면고필,목전재국내제일충방법경괄우실제공정응용.해공예개성후SiC기저표면산사손모대대강저,표면질량득도명현개선.도Ag후표면반사솔접근우포광량호적미정파리적수평,이능구만족고질량공간광학계통적응용수요.
