现代化工
現代化工
현대화공
MODERN CHEMICAL INDUSTRY
2000年
12期
38-40
,共3页
低正构烷烃%液体石蜡%氯化石蜡-52
低正構烷烴%液體石蠟%氯化石蠟-52
저정구완경%액체석사%록화석사-52
对低正构烷烃液体石蜡生产合格的氯化石蜡提出内稳定设想,确定了最佳的工艺条件:液蜡预热温度80℃,反应温度80～100℃,氯气流量80～100 m3/h,催化剂用量0.03%,添加剂用量0.3%,反应时间5.5～6.5 h,稳定剂用量0.15%.
對低正構烷烴液體石蠟生產閤格的氯化石蠟提齣內穩定設想,確定瞭最佳的工藝條件:液蠟預熱溫度80℃,反應溫度80～100℃,氯氣流量80～100 m3/h,催化劑用量0.03%,添加劑用量0.3%,反應時間5.5～6.5 h,穩定劑用量0.15%.
대저정구완경액체석사생산합격적록화석사제출내은정설상,학정료최가적공예조건:액사예열온도80℃,반응온도80～100℃,록기류량80～100 m3/h,최화제용량0.03%,첨가제용량0.3%,반응시간5.5～6.5 h,은정제용량0.15%.
