中国稀土学报
中國稀土學報
중국희토학보
JOURNAL OF THE CHINESE RARE EARTH SOCIETY
2003年
z1期
144-149
,共6页
硅片%硅片清洗%硅片表面微观状态
硅片%硅片清洗%硅片錶麵微觀狀態
규편%규편청세%규편표면미관상태
对目前硅片湿式化学清洗方法中常用的化学清洗溶液的清洗机理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细论述.介绍了兆声波、臭氧、电解离子水、只用HF清洗或简化常规工艺后最后用HF清洗等最新的硅片清洗技术, 指出了硅片清洗工艺的发展趋势.
對目前硅片濕式化學清洗方法中常用的化學清洗溶液的清洗機理、清洗特點、清洗跼限以及清洗對硅片錶麵微觀狀態的影響進行瞭詳細論述.介紹瞭兆聲波、臭氧、電解離子水、隻用HF清洗或簡化常規工藝後最後用HF清洗等最新的硅片清洗技術, 指齣瞭硅片清洗工藝的髮展趨勢.
대목전규편습식화학청세방법중상용적화학청세용액적청세궤리、청세특점、청세국한이급청세대규편표면미관상태적영향진행료상세논술.개소료조성파、취양、전해리자수、지용HF청세혹간화상규공예후최후용HF청세등최신적규편청세기술, 지출료규편청세공예적발전추세.
