CAJ | 학술논문

通过溶胶凝胶甩膜工艺,在抛光的硅晶片(100)基底上制备出Ni0.5Zn0.5Fe2O4(NZF)薄膜并对其结构和磁性的测量结果进行了分析.薄膜表面平整,具有较好的单相结构,其颗粒平均粒径约30nm.制备的NZF薄膜厚度分别约90、120和180nm.实验结果表明,薄膜在低温下表现出自旋玻璃态行为.当外加磁场为7.96×103A/m时,NZF薄膜自旋冻结温度大约在Tf=140K,自旋冻结程度随薄膜厚度增加而降低.在40～300K之间,薄膜饱和磁化强度和矫顽力都随着温度增加而降低.NZF薄膜在T=40K处存在最大磁化强度.较薄薄膜在40K以下饱和磁化强度的降低是因为磁性颗粒表面自旋被部分冻结而导致的磁性离子相互间自旋耦合作用减弱的结果.
통과용효응효솔막공예,재포광적규정편(100)기저상제비출Ni0.5Zn0.5Fe2O4(NZF)박막병대기결구화자성적측량결과진행료분석.박막표면평정,구유교호적단상결구,기과립평균립경약30nm.제비적NZF박막후도분별약90、120화180nm.실험결과표명,박막재저온하표현출자선파리태행위.당외가자장위7.96×103A/m시,NZF박막자선동결온도대약재Tf=140K,자선동결정도수박막후도증가이강저.재40～300K지간,박막포화자화강도화교완력도수착온도증가이강저.NZF박막재T=40K처존재최대자화강도.교박박막재40K이하포화자화강도적강저시인위자성과립표면자선피부분동결이도치적자성리자상호간자선우합작용감약적결과.