光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2011年
1期
9-12
,共4页
AlN薄膜%溅射气压%结构%表面粗糙度
AlN薄膜%濺射氣壓%結構%錶麵粗糙度
AlN박막%천사기압%결구%표면조조도
采用直流磁控反应溅射法,在Si(111)基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显的吸收峰;当溅射气压不低于0.6 Pa时,薄膜的X射线衍射图中均出现了六方相的AlN(100)、(110)和弱的(002)衍射峰,说明所制备的AlN薄膜为多晶态,在傅里叶变换红外光谱中,在波数为677 cm-1处有明显的吸收峰;随着溅射气压的增大,薄膜表面粗糙度先减小后增大,而薄膜的沉积速率先增大后减少,且沉积速率较大有利于减小薄膜的表面粗糙度;在溅射气压为0.6 Pa时,薄膜具有最小的表面粗糙度和最大的沉积速率.
採用直流磁控反應濺射法,在Si(111)基底上成功製備瞭多晶六方相AlN薄膜.研究瞭濺射過程中濺射氣壓對薄膜結構和錶麵粗糙度的影響.結果錶明:噹濺射氣壓低于0.6 Pa時,薄膜為非晶態,在傅裏葉變換紅外光譜中,沒有明顯的吸收峰;噹濺射氣壓不低于0.6 Pa時,薄膜的X射線衍射圖中均齣現瞭六方相的AlN(100)、(110)和弱的(002)衍射峰,說明所製備的AlN薄膜為多晶態,在傅裏葉變換紅外光譜中,在波數為677 cm-1處有明顯的吸收峰;隨著濺射氣壓的增大,薄膜錶麵粗糙度先減小後增大,而薄膜的沉積速率先增大後減少,且沉積速率較大有利于減小薄膜的錶麵粗糙度;在濺射氣壓為0.6 Pa時,薄膜具有最小的錶麵粗糙度和最大的沉積速率.
채용직류자공반응천사법,재Si(111)기저상성공제비료다정륙방상AlN박막.연구료천사과정중천사기압대박막결구화표면조조도적영향.결과표명:당천사기압저우0.6 Pa시,박막위비정태,재부리협변환홍외광보중,몰유명현적흡수봉;당천사기압불저우0.6 Pa시,박막적X사선연사도중균출현료륙방상적AlN(100)、(110)화약적(002)연사봉,설명소제비적AlN박막위다정태,재부리협변환홍외광보중,재파수위677 cm-1처유명현적흡수봉;수착천사기압적증대,박막표면조조도선감소후증대,이박막적침적속솔선증대후감소,차침적속솔교대유리우감소박막적표면조조도;재천사기압위0.6 Pa시,박막구유최소적표면조조도화최대적침적속솔.
