稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2012年
6期
1075-1079
,共5页
王雪%李成山%于泽铭%郑会玲%冀勇斌%樊占国
王雪%李成山%于澤銘%鄭會玲%冀勇斌%樊佔國
왕설%리성산%우택명%정회령%기용빈%번점국
硫酸%RABiTS%Ni5W基带%电化学抛光
硫痠%RABiTS%Ni5W基帶%電化學拋光
류산%RABiTS%Ni5W기대%전화학포광
采用硫酸溶液作为抛光液对轧制辅助双轴织构技术制备的Ni5W合金基带进行电化学抛光,在不同的抛光液浓度下获得了表面状态不同的基带.利用X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等手段研究了抛光过程中表面物质相成分及成因.结果表明:抛光液浓度较低时基带表面会形成过量的氧化物和H2WO4,造成表面选择性溶解过程紊乱,导致无法抛光.通过优化抛光液浓度可在基带表面获得适当厚度的固体层和粘液层,电流通过时可获得良好的抛光效果.
採用硫痠溶液作為拋光液對軋製輔助雙軸織構技術製備的Ni5W閤金基帶進行電化學拋光,在不同的拋光液濃度下穫得瞭錶麵狀態不同的基帶.利用X射線光電子能譜(XPS)、X射線衍射(XRD)、掃描電鏡(SEM)等手段研究瞭拋光過程中錶麵物質相成分及成因.結果錶明:拋光液濃度較低時基帶錶麵會形成過量的氧化物和H2WO4,造成錶麵選擇性溶解過程紊亂,導緻無法拋光.通過優化拋光液濃度可在基帶錶麵穫得適噹厚度的固體層和粘液層,電流通過時可穫得良好的拋光效果.
채용류산용액작위포광액대알제보조쌍축직구기술제비적Ni5W합금기대진행전화학포광,재불동적포광액농도하획득료표면상태불동적기대.이용X사선광전자능보(XPS)、X사선연사(XRD)、소묘전경(SEM)등수단연구료포광과정중표면물질상성분급성인.결과표명:포광액농도교저시기대표면회형성과량적양화물화H2WO4,조성표면선택성용해과정문란,도치무법포광.통과우화포광액농도가재기대표면획득괄당후도적고체층화점액층,전류통과시가획득량호적포광효과.
