光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2011年
11期
2731-2735
,共5页
王定理%刘文%周宁%徐智谋
王定理%劉文%週寧%徐智謀
왕정리%류문%주저%서지모
纳米压印%压印模板%分布反馈光栅
納米壓印%壓印模闆%分佈反饋光柵
납미압인%압인모판%분포반궤광책
高质量、低成本的压印模板的获得是采用纳米压印技术制作分布反馈光栅的难点,本文采用双层金属掩模及liftoff金属剥离方法制作了适用于紫外压印技术的石英基压印模板.首先,采用电子柬光刻技术在镀钛的石英基片表面直写出DFB光栅的光刻胶图形,接着,在其表面溅射一层金属镍并进行金属剥离得到与光刻胶相对的图形,最后采用电感耦合等离子体(ICP)干法刻蚀技术将光栅图形转移到石英基片上,并对模板的表面进行了防粘连处理.所制作的DFB光栅压印模板周期为200 nm,光栅中间具有λ/4相移结构,适用于1 310 nm波长的相移型DFB半导体激光器光栅的制作.
高質量、低成本的壓印模闆的穫得是採用納米壓印技術製作分佈反饋光柵的難點,本文採用雙層金屬掩模及liftoff金屬剝離方法製作瞭適用于紫外壓印技術的石英基壓印模闆.首先,採用電子柬光刻技術在鍍鈦的石英基片錶麵直寫齣DFB光柵的光刻膠圖形,接著,在其錶麵濺射一層金屬鎳併進行金屬剝離得到與光刻膠相對的圖形,最後採用電感耦閤等離子體(ICP)榦法刻蝕技術將光柵圖形轉移到石英基片上,併對模闆的錶麵進行瞭防粘連處理.所製作的DFB光柵壓印模闆週期為200 nm,光柵中間具有λ/4相移結構,適用于1 310 nm波長的相移型DFB半導體激光器光柵的製作.
고질량、저성본적압인모판적획득시채용납미압인기술제작분포반궤광책적난점,본문채용쌍층금속엄모급liftoff금속박리방법제작료괄용우자외압인기술적석영기압인모판.수선,채용전자간광각기술재도태적석영기편표면직사출DFB광책적광각효도형,접착,재기표면천사일층금속얼병진행금속박리득도여광각효상대적도형,최후채용전감우합등리자체(ICP)간법각식기술장광책도형전이도석영기편상,병대모판적표면진행료방점련처리.소제작적DFB광책압인모판주기위200 nm,광책중간구유λ/4상이결구,괄용우1 310 nm파장적상이형DFB반도체격광기광책적제작.
