光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2005年
1期
25-28
,共4页
套格套%尧舜%张云鹏%路国光%初国强%刘云%王立军
套格套%堯舜%張雲鵬%路國光%初國彊%劉雲%王立軍
투격투%요순%장운붕%로국광%초국강%류운%왕립군
半导体激光器%等离子体辅助电子束蒸发%高反膜%增透膜%灾变性光学损伤
半導體激光器%等離子體輔助電子束蒸髮%高反膜%增透膜%災變性光學損傷
반도체격광기%등리자체보조전자속증발%고반막%증투막%재변성광학손상
采用等离子体辅助电子束蒸发方法在808 nm大功率量子阱半导体激光器腔面设计镀制了HfO2/SiO2系前后腔面膜.用直接测量法测量并比较了各种常用膜系的相对损伤阈值.增透膜的反射率为12.2%,高反膜的反射率为97.9%.对于100 μm条宽、1000 μm腔长的条形结构通过器件测量结果是出光功率提高79%、外微分量子效率提高80%、功率效率由没镀膜之前的22.2%提高到镀膜之后的39.8%.
採用等離子體輔助電子束蒸髮方法在808 nm大功率量子阱半導體激光器腔麵設計鍍製瞭HfO2/SiO2繫前後腔麵膜.用直接測量法測量併比較瞭各種常用膜繫的相對損傷閾值.增透膜的反射率為12.2%,高反膜的反射率為97.9%.對于100 μm條寬、1000 μm腔長的條形結構通過器件測量結果是齣光功率提高79%、外微分量子效率提高80%、功率效率由沒鍍膜之前的22.2%提高到鍍膜之後的39.8%.
채용등리자체보조전자속증발방법재808 nm대공솔양자정반도체격광기강면설계도제료HfO2/SiO2계전후강면막.용직접측량법측량병비교료각충상용막계적상대손상역치.증투막적반사솔위12.2%,고반막적반사솔위97.9%.대우100 μm조관、1000 μm강장적조형결구통과기건측량결과시출광공솔제고79%、외미분양자효솔제고80%、공솔효솔유몰도막지전적22.2%제고도도막지후적39.8%.
