激光与红外
激光與紅外
격광여홍외
LASER & INFRARED
2007年
12期
1307-1310
,共4页
刘伟%苏小平%张树玉%郝鹏%王宏斌%刘嘉禾%阎兰琴
劉偉%囌小平%張樹玉%郝鵬%王宏斌%劉嘉禾%閻蘭琴
류위%소소평%장수옥%학붕%왕굉빈%류가화%염란금
氮氧化铪薄膜%磁控反应溅射%晶体结构%显微结构%光学性能
氮氧化鉿薄膜%磁控反應濺射%晶體結構%顯微結構%光學性能
담양화협박막%자공반응천사%정체결구%현미결구%광학성능
用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜.沉积过程在氧气、氮气和氩气的气氛中进行,衬底为多光谱ZnS,沉积温度为室温.用X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜、傅里叶变换红外光谱仪、紫外-可见分光光度计等分别研究了不同氧分压下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、光学性能等.XRD分析表明随着氧分压的降低,薄膜的晶体结构由氧化铪转变为氮氧化铪相;SEM和AFM分析表明不同氧分压下沉积的薄膜都为柱状结构,氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大;镀膜之后,在0.35～2μm范围内,薄膜的透过率变化有显著差异,在2～12μm波段,薄膜透过率和未镀膜衬底透过率相当,变化不明显.
用磁控反應濺射法在不同氧分壓下製備瞭氮氧化鉿薄膜.沉積過程在氧氣、氮氣和氬氣的氣氛中進行,襯底為多光譜ZnS,沉積溫度為室溫.用X射線衍射、掃描電鏡、原子力顯微鏡、傅裏葉變換紅外光譜儀、紫外-可見分光光度計等分彆研究瞭不同氧分壓下HfOxNy薄膜的晶體結構、顯微結構、光學性能等.XRD分析錶明隨著氧分壓的降低,薄膜的晶體結構由氧化鉿轉變為氮氧化鉿相;SEM和AFM分析錶明不同氧分壓下沉積的薄膜都為柱狀結構,氧分壓較低時薄膜錶麵粗糙度較大;鍍膜之後,在0.35～2μm範圍內,薄膜的透過率變化有顯著差異,在2～12μm波段,薄膜透過率和未鍍膜襯底透過率相噹,變化不明顯.
용자공반응천사법재불동양분압하제비료담양화협박막.침적과정재양기、담기화아기적기분중진행,츤저위다광보ZnS,침적온도위실온.용X사선연사、소묘전경、원자력현미경、부리협변환홍외광보의、자외-가견분광광도계등분별연구료불동양분압하HfOxNy박막적정체결구、현미결구、광학성능등.XRD분석표명수착양분압적강저,박막적정체결구유양화협전변위담양화협상;SEM화AFM분석표명불동양분압하침적적박막도위주상결구,양분압교저시박막표면조조도교대;도막지후,재0.35～2μm범위내,박막적투과솔변화유현저차이,재2～12μm파단,박막투과솔화미도막츤저투과솔상당,변화불명현.
