材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2010年
13期
20-25
,共6页
高亮%杨建广%陈胜龙%杨济豪%吴玉山
高亮%楊建廣%陳勝龍%楊濟豪%吳玉山
고량%양건엄%진성룡%양제호%오옥산
PVD%MOCVD%ALD%TaN薄膜%前驱体
PVD%MOCVD%ALD%TaN薄膜%前驅體
PVD%MOCVD%ALD%TaN박막%전구체
TaN薄膜是一种重要的高新技术材料,主要介绍了物理气相沉积法(PVD)、金属有机化学气相沉积法(MOCVD)和原子层沉积法(ALD)制备TaN薄膜的工艺技术,评述了它们各自的优缺点.从前驱体的选择方面详细评述了MOCVD法和ALD法制备TaN薄膜的研究进展,比较和评述了各类前驱体的优缺点.总结了TaN薄膜的应用现状以及薄膜制备过程中的主要影响因素,并简要展望了其发展方向.
TaN薄膜是一種重要的高新技術材料,主要介紹瞭物理氣相沉積法(PVD)、金屬有機化學氣相沉積法(MOCVD)和原子層沉積法(ALD)製備TaN薄膜的工藝技術,評述瞭它們各自的優缺點.從前驅體的選擇方麵詳細評述瞭MOCVD法和ALD法製備TaN薄膜的研究進展,比較和評述瞭各類前驅體的優缺點.總結瞭TaN薄膜的應用現狀以及薄膜製備過程中的主要影響因素,併簡要展望瞭其髮展方嚮.
TaN박막시일충중요적고신기술재료,주요개소료물리기상침적법(PVD)、금속유궤화학기상침적법(MOCVD)화원자층침적법(ALD)제비TaN박막적공예기술,평술료타문각자적우결점.종전구체적선택방면상세평술료MOCVD법화ALD법제비TaN박막적연구진전,비교화평술료각류전구체적우결점.총결료TaN박막적응용현상이급박막제비과정중적주요영향인소,병간요전망료기발전방향.
