物理学报
物理學報
물이학보
2000年
11期
2290-2295
,共6页
多层膜%各向异性磁电阻%界面效应%退火
多層膜%各嚮異性磁電阻%界麵效應%退火
다층막%각향이성자전조%계면효응%퇴화
用磁控溅射方法制备了两个具有不同Fe层厚度的[Ni80Co20(L)/Fe(tFe)]N多层膜系列样品,其中tFe=0.1和2nm.研究了两个系列样品的磁及输运性质随Ni80Co20层厚度L的变化关系.在退火态[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N系列样品中,发现各向异性磁电阻(AMR)和横向磁电阻(TMR)在L为10nm附近存在一较宽的增强峰,其峰位与制备态[Ni80Co20(L)/Fe(2nm)]25多层膜TMR的增强峰位一致.当L小于Ni80Co20合金的电子平均自由程时,制备态[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N样品的各向异性磁电阻(Δρ)和零场电阻率ρ都随L的减小而增加,且ρ的增量超过Δρ的增量.ρ随L的依赖关系可采用Fuchs-Sondheimer理论描述.在L小于10nm时,制备态界面掺杂[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N系列样品的矫顽力Hc随L近似直线上升,在L大于10nm后趋于饱和.退火后Hc显著下降.实验结果表明,在多层膜结构中,界面散射可导致ρ和Δρ的增强;磁性合金界面层还可导致畴结构的改变及TMR和AMR的增强.
用磁控濺射方法製備瞭兩箇具有不同Fe層厚度的[Ni80Co20(L)/Fe(tFe)]N多層膜繫列樣品,其中tFe=0.1和2nm.研究瞭兩箇繫列樣品的磁及輸運性質隨Ni80Co20層厚度L的變化關繫.在退火態[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N繫列樣品中,髮現各嚮異性磁電阻(AMR)和橫嚮磁電阻(TMR)在L為10nm附近存在一較寬的增彊峰,其峰位與製備態[Ni80Co20(L)/Fe(2nm)]25多層膜TMR的增彊峰位一緻.噹L小于Ni80Co20閤金的電子平均自由程時,製備態[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N樣品的各嚮異性磁電阻(Δρ)和零場電阻率ρ都隨L的減小而增加,且ρ的增量超過Δρ的增量.ρ隨L的依賴關繫可採用Fuchs-Sondheimer理論描述.在L小于10nm時,製備態界麵摻雜[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N繫列樣品的矯頑力Hc隨L近似直線上升,在L大于10nm後趨于飽和.退火後Hc顯著下降.實驗結果錶明,在多層膜結構中,界麵散射可導緻ρ和Δρ的增彊;磁性閤金界麵層還可導緻疇結構的改變及TMR和AMR的增彊.
용자공천사방법제비료량개구유불동Fe층후도적[Ni80Co20(L)/Fe(tFe)]N다층막계렬양품,기중tFe=0.1화2nm.연구료량개계렬양품적자급수운성질수Ni80Co20층후도L적변화관계.재퇴화태[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N계렬양품중,발현각향이성자전조(AMR)화횡향자전조(TMR)재L위10nm부근존재일교관적증강봉,기봉위여제비태[Ni80Co20(L)/Fe(2nm)]25다층막TMR적증강봉위일치.당L소우Ni80Co20합금적전자평균자유정시,제비태[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N양품적각향이성자전조(Δρ)화령장전조솔ρ도수L적감소이증가,차ρ적증량초과Δρ적증량.ρ수L적의뢰관계가채용Fuchs-Sondheimer이론묘술.재L소우10nm시,제비태계면참잡[Ni80Co20(L)/Fe(0.1nm)]N계렬양품적교완력Hc수L근사직선상승,재L대우10nm후추우포화.퇴화후Hc현저하강.실험결과표명,재다층막결구중,계면산사가도치ρ화Δρ적증강;자성합금계면층환가도치주결구적개변급TMR화AMR적증강.
