光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2002年
8期
985-988
,共4页
周平%黄昱勇%林宇翔%李海峰%刘旭%顾培夫
週平%黃昱勇%林宇翔%李海峰%劉旭%顧培伕
주평%황욱용%림우상%리해봉%류욱%고배부
ITO薄膜%光学特性%磁控溅射%电子束加热蒸发
ITO薄膜%光學特性%磁控濺射%電子束加熱蒸髮
ITO박막%광학특성%자공천사%전자속가열증발
比较了用电束加热蒸发法和直流磁控溅射法制备的氧化锡铟(ITO)薄膜在红外波段的光学特性.实验发现,通过直流磁控溅射在常温下制备的ITO薄膜在红外波段折射率稳定、消光系数小,比电子束加热蒸发制备的膜有较高的透过率.在波长1550nm附近的透过率可达86%以上,消光系数约为0.04,方电阻最低为100Ω/□.
比較瞭用電束加熱蒸髮法和直流磁控濺射法製備的氧化錫銦(ITO)薄膜在紅外波段的光學特性.實驗髮現,通過直流磁控濺射在常溫下製備的ITO薄膜在紅外波段摺射率穩定、消光繫數小,比電子束加熱蒸髮製備的膜有較高的透過率.在波長1550nm附近的透過率可達86%以上,消光繫數約為0.04,方電阻最低為100Ω/□.
비교료용전속가열증발법화직류자공천사법제비적양화석인(ITO)박막재홍외파단적광학특성.실험발현,통과직류자공천사재상온하제비적ITO박막재홍외파단절사솔은정、소광계수소,비전자속가열증발제비적막유교고적투과솔.재파장1550nm부근적투과솔가체86%이상,소광계수약위0.04,방전조최저위100Ω/□.
