光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2004年
6期
747-750
,共4页
袁景梅%范瑞瑛%杨健%邵建达%范正修
袁景梅%範瑞瑛%楊健%邵建達%範正脩
원경매%범서영%양건%소건체%범정수
薄膜光学%紫外膜%ZrO2%HfO2%光学性能
薄膜光學%紫外膜%ZrO2%HfO2%光學性能
박막광학%자외막%ZrO2%HfO2%광학성능
用两种不同纯度的HfO2材料与同一纯度的SiO2材料组合,沉积λ/4规整膜系(HL)11H形成266 nm的紫外反射镜,发现反射率相差0.7%左右.用X光电子能谱法分析了高反膜中表层HfO2中的成分,发现ZrO2的含量相差一个数量级左右.为确定形成这种差别的原因,用辉光放电质谱法测定了这两种HfO2材料中锆(Zr)及其钛(Ti)、铁(Fe)的含量,发现Zr是其中的最主要的杂质,两种HfO2材料中Zr含量有一个数量级的差别.说明在266 nm波段,HfO2中ZrO2的含量会对HfO2/SiO2高反膜的反射率造成影响.根据HfO2单层膜的光谱曲线,推算出了这两种材料的消光系数的差别,并用Tfcalc膜系设计软件进行理论和镀制结果的模拟,得到与实验测试一致的结果.
用兩種不同純度的HfO2材料與同一純度的SiO2材料組閤,沉積λ/4規整膜繫(HL)11H形成266 nm的紫外反射鏡,髮現反射率相差0.7%左右.用X光電子能譜法分析瞭高反膜中錶層HfO2中的成分,髮現ZrO2的含量相差一箇數量級左右.為確定形成這種差彆的原因,用輝光放電質譜法測定瞭這兩種HfO2材料中鋯(Zr)及其鈦(Ti)、鐵(Fe)的含量,髮現Zr是其中的最主要的雜質,兩種HfO2材料中Zr含量有一箇數量級的差彆.說明在266 nm波段,HfO2中ZrO2的含量會對HfO2/SiO2高反膜的反射率造成影響.根據HfO2單層膜的光譜麯線,推算齣瞭這兩種材料的消光繫數的差彆,併用Tfcalc膜繫設計軟件進行理論和鍍製結果的模擬,得到與實驗測試一緻的結果.
용량충불동순도적HfO2재료여동일순도적SiO2재료조합,침적λ/4규정막계(HL)11H형성266 nm적자외반사경,발현반사솔상차0.7%좌우.용X광전자능보법분석료고반막중표층HfO2중적성분,발현ZrO2적함량상차일개수량급좌우.위학정형성저충차별적원인,용휘광방전질보법측정료저량충HfO2재료중고(Zr)급기태(Ti)、철(Fe)적함량,발현Zr시기중적최주요적잡질,량충HfO2재료중Zr함량유일개수량급적차별.설명재266 nm파단,HfO2중ZrO2적함량회대HfO2/SiO2고반막적반사솔조성영향.근거HfO2단층막적광보곡선,추산출료저량충재료적소광계수적차별,병용Tfcalc막계설계연건진행이론화도제결과적모의,득도여실험측시일치적결과.
